SiC MOSFET8 ý w Æ X Ø ¤V R Ë
L
|< û B ∗ · T ç ¡r ) · T « »0 å · T Z Ì ] ï B
l ( É Ó' / B N < ÆÂ Ò, Ø æ· ¡ ¤ @ / < Æ §, ' õ AÅ Ò 361-763
»* å ) o · T 0 ï F¦ · £ Ó 0 ï F
l ( É Ó' / B N < ÆÂ Ò x 9 ( É Ó' & ñ Ð: x ½ ¨ è, Ø æ· ¡ ¤ @ / < Æ §, ' õ AÅ Ò 361-763 (2003¸ 6 Z 4 25{ 9 ~ Ã Î6 £ §)
250
◦C_ ¦ : r \ " f 1 l x H SiC CMOSFET\ ¦ ] j # : r ¸ o\ É r NMOS, PMOS è _
: £ ¤$ í ` ¦ ¸ % i . è [ þ t É r s : r Å Ò{ 9 \ _ K + þ A$ í ) a p- Ä ºÓ ü t, p
+, n
+] X 8 ú ¤% ò % i , Mo F K5 Å q > s à Ô _
/ B N& ñ © ë H ] j& h ` ¦ ¦ 9ô Ç ¨ î & h ½ ¨ ¸, Õ ªo ¦ ] X 8 ú ¤% ò % i \ / B N: x Ü ¼ Ð 6 x ) a Ti/Ni salicide ¸b ] X 8
ú
¤ Ü ¼ Ð ½ ¨$ í ÷ &% 3 . NMOS è _ : £ ¤$ í É r & ñ Si > s à Ô\ q K Z } É r > ´ òõ s 1 l x ¸, Z } É r × ¼Y U
À Ó\ ¦ Ðs ¦ e % 3 t ë ß PMOS H \ P o\ _ K : £ ¤$ í s $ ÷ &% 3 . Salicide ] X ½ + Ë É r n
+] X ½ + Ë% ò % i
\
" f ± ú É r ] X 8 ú ¤ $ ½ Ó` ¦ Ð% i t ë ß p
+] X ½ + Ë% ò % i \ " f H p + þ A ¸ à Ô_ ± ú É r Ö ¸$ í o Ö ¦ Ð K Z } É r ] X 8
ú
¤ $ ½ Ó` ¦ ? /% 3 . ¢ ¸ô Ç, ¦ : r 1 l x ` ¦ 0 Aô Ç NMOS, PMOS è _ : £ ¤$ í 7 £ x ` ¦ 0 Aô Ç ¦ 9 ½ Ó` ¦ ]
jî ß % i .
PACS numbers: 73.40.Qv, 73.40.Cg
Keywords: z ´o B H s à Ô, CMOSFET, ] t o Ú ÔD ! p > s à Ô, ¦ : r
I. " e  ] Ø
z
´o B H(Si) É r ¸Z þ t± ú í ß \ O ì r \ " f Å Ò Ð 6 x ÷ &
¦ e H ì ø Í ¸^ Ó ü t| 9 s t ë ß © @ /& h Ü ¼ Ð a % v É r \ -t -Ì s Ü
¼ Ð K ¦ : r6 x è \ 6 £ x6 x ÷ &l H & h ½ + Ë t · ú § . Si n
t _ O CMOS\ ¦ ¦ : r \ " f 1 l x r v ¸s Ý ¼ õ Û ¼ 0 Ag A 5 Å q ¸ y è > ÷ & 9 ¦ : r \ " f ë H) 3 · ú s o
# · ú ² ú / B G _ Ðf -ë H) 3 · ú ` ¦ â r v > ) a
[1]. ¢ ¸ô Ç ¦ : r \ " f µ 1 ÏÒ q t l / 'î r Y Uu -\ O ` ¦ y èr v
l 0 AK Y Us Ö ©` ¦ Æ Ò : £ ¤Z > ô Ç / B N& ñ l Õ ü t s 9 כ
¹ [2].
V ,
É r ½ × ¼-Ì s` ¦ ° ú ¦ e H z ´o B H s × ¼(SiC) H 600
◦C_ ¦ : r \ " f ¸ ø @$ í e > 1 l x H כ Ü ¼ Ð · ú
94 R e # Q ¦ : r6 x è Ð z ´6 x o\ © î r Ó ü t| 9 s
. Õ ª\ , ± ú ÐÕ ª ¢ ¸ H n t _ O r Ð\ & h 6 x l 0
Aô Ç SiC MOSFET\ @ /ô Ç ½ ¨ ¸ Ö ¸µ 1 Ïy ' ÷ &# Q SiC
\
¦ s 6 xô Ç NMOSFET x 9 PMOSFET_ ] j õ s \ ¦ s 6
xô Ç Ðf r Ð [3,4], s : r Å Ò{ 9 ) a n, p+ þ A Ä ºÓ ü t / B N& ñ l Õ ü t
`
¦ s 6 xô Ç CMOS ] j x 9 r Ð l Õ ü t[ þ t s Ð ¦÷ &% 3 [5, 6].
∗
E-mail: [email protected]
l
> r \ µ 1 ϳ ð÷ &% 3 ~ SiC\ ¦ s 6 xô Ç CMOSFET[ þ t É r > s
à Ô(gate) Ó ü t| 9 Ð" f · ú À Òp ³ o u s & ñ Si` ¦ 6 x
%
i . t ë ß · ú À Òp ³ o u_ â Ä º 0 l q H& h s 660
◦C Ð ± ú
¦ : r1 l x \ & h ½ + Ë t · ú §Ü ¼ 9 ¢ ¸ô Ç Ê ê5 Å q / B N& ñ : r ¸ ] j ô
Ç` ¦ ~ Ã Î H . & ñ Si_ â Ä º, þ j@ / 1100
◦C t Ê ê5 Å q /
B
N& ñ s 0 p x t ë ß , ¦ : r \ " f è 1 l x r \ > s à Ô_
`
Ø Ôp ï r0 A # > s à Ô_ ¸i ç 0 l x ¸\ ¦ or & { 9
< ÊÃ º\ ¦ ¸] X H ~ ½ ÓZ O Ü ¼ Ð ë H) 3 · ú ` ¦ ¸] X H כ s Ô
¦ 0 p x 9, z ´ : r õ ¦ : r \ @ /ô Ç ë H) 3 · ú ° ú כ[ þ t s { 9 ' a
$ í
` ¦ ° ú t 3 l w > ) a . > s à Ô ß ¼l f Ü ¼ Ð+ µ 1 Ï Ò q
t H & ñ Si > s à Ô_ / B N 9 & ³ © ` ¦ F G4 ¤ l 0 AK þ
j H z ´o B H l Õ ü t \ " f ¸ Mo(] t o Ú ÔD ! p)õ ° ú É r F K5 Å q > s
à Ô\ ¦ & h 6 x 9 H r ¸ e [7]. : £ ¤ y Mo É r 6 xÖ 6 x& h s
Z } É r ? / o$ í F K5 Å q s 9 z ´o B H í ß o} 0 A\ " f î ß & ñ ô Ç
¦ : r : £ ¤$ í ` ¦ ? /# Q SiCü < ° ú É r ¦ : r 1 l x è _ > s
à Ô F G, ¸b (ohmic) ] X 8 ú ¤ F K5 Å q Ü ¼ Ð 6 x½ + É Ã º e H Ä
»o ô Ç & h ` ¦ t m ¦ e .
: r ½ ¨\ " f H s : r Å Ò{ 9 ) a p+ þ A Ä ºÓ ü t` ¦ 6 xô Ç CMOS- FET / B N& ñ l Õ ü t` ¦ & h 6 x # Mo > s à Ô\ ¦ 6 xô Ç NMOS- FET, PMOSFET\ ¦ ] j ¦ y y _ : £ ¤$ í õ \ P & h î ß & ñ
$ í
` ¦ ì r$ 3 % i . ¢ ¸ô Ç, l > r \ n, p+ þ A ¸b ] X 8 ú ¤ Ó ü t| 9 ` ¦ y
y Ni, AlÜ ¼ Ð " f Ð É r F K5 Å q` ¦ 6 x ~ / B N& ñ ` ¦ @ /^
-108-
Õ
ªa Ë > 1. 9 × ¼í ß o} 0 A\ e H Mo > s à Ô\ " f
í Ðo è/ B N& ñ × æ \ µ 1 ÏÒ q t H Ô ¦| ¾ Ó% ò % i _ > h| Ä Ì ¸.
# n, p+ þ A ¸¿ º\ 1 l x{ 9 ô Ç l & ñ § > = ) a Ni/Ti ¶ ú o s
×
¼(self-aligned silicide : salicide)\ ¦ & h 6 x # / B N& ñ ` ¦ 7 á §
8 é ß í H o % i . s ü < ° ú s SiC\ Mo > s à Ôü < ¶ ú o s
× ¼ ] X ½ + Ë` ¦ è _ ] j É r % 6 £ § Ü ¼ Ð Ð ¦÷ & H כ s
.
II. ÷ m Ç] M öU ê s0 n É
N+ þ A 6H-SiC l ó ø Í0 A\ Ô æ è(B) s : r Å Ò{ 9 ) a p+ þ A Ä º Ó
ü
t` ¦ + þ A$ í # CMOSFET\ ¦ ] j % i . ¸b ] X 8 ú ¤` ¦ 0 A ô
Ç n
+x 9 p
+% ò % i É r | 9 è(N)õ · ú À Òp ³ o u(Al) s y y s
: r Å Ò{ 9 ÷ &% 3 ¦ 1600
◦C_ ¦ : r \ " f 30ì rç ß \ P % o % i
. s Ê ê 44 nm ¿ ºa _ í ß o} ` ¦ \ P & h $ í © ¦ Mo > s
à Ô\ ¦ 7 £ x Ã Ì % i . è ] j / B N& ñ _ © [ j ? /6 x É r : r
½
¨ s s p µ 1 ϳ ð ) a ü < Ä » [8]. ¶ ú o s × ¼ ] j
É
r í ß o} ` ¦ 7 £ x Ã Ì Ê ê n
+x 9 p
+] X ½ + Ë Â Òì r` ¦ Û ¼ß ¼ \ O
\
_ K > h½ ¨Â Ò\ ¦ ë ß [ þ t ¦ Niõ Ti` ¦ 30 nm õ 5 nm\ ¦ 7 £ x
Ã
Ìô Ç Ê ê 950
◦C 4ì r | 9 è ì r0 Al \ " f \ P % o # × þ & h Ü
¼ Ð SiC ] X ½ + Ë ³ ð \ ì ø Í6 £ x ¸2 ¤ % i . s Ê ê [ j& ñ ` ¦ :
x K o½ + ËÓ ü t s + þ A$ í ÷ &t · ú § É r % ò % i _ Niõ Ti\ ¦ ] j
%
i . Õ ª Ê ê, > s à Ô ] X 8 ú ¤ % ò % i ` ¦ & ñ _ ô Ç 6 £ § 700 ¿ º a
_ Al` ¦ 7 £ x Ã Ì # F K5 Å q C ` ¦ ' ¬ I .
è ç ß _ o H × ¼ a A(guard ring) + þ AI _ G V , Û ¼ d
v s : r Å Ò{ 9 \ _ K s À Ò# Q& . s Qô Ç ¨ î & h è o
H 9 × ¼ í ß o} ` ¦ 6 x t · ú § G V , % ò % i s & ñ S X y
&
ñ _ ÷ &t · ú § H é ß & h s e Ü ¼ , 9 × ¼ í ß o} ` ¦ 6 x H
â
Ä º\ µ 1 ÏÒ q t H Mo > s à Ô _ é ß | Ã Ì` ¦ C ] j½ + É Ã º e % 3
. 7 £ ¤, ì ø Íì ø Í } (anti-reflection) ïh A` ¦ t · ú § É r F K5 Å q }
_ o èÕ ª x / B N& ñ × æ ³ ð ì ø Í \ _ K y F g} _ " é ¶ u
· ú § H % ò % i s ¸Ø ¦ ÷ & ¦, y F g} ` ¦ Û ¼ß ¼ Ð # Mo
\
g A r ¸Ø ¦ ) a % ò % i x 9 _ Mo > s à Ô s = å S # Q . ë H ]
j& h ` ¦ Õ ªa Ë > 1\ > h| Ä Ì& h Ü ¼ Ð ¸r % i .
III. ÷ m Ç] M ö+ s ÇÊ Ý õ m Í w ² o
Õ
ªa Ë > 2 H z ´ : r õ 250
◦C \ " f 8 £ ¤& ñ ô Ç G V , ; ¤ 60 µm, G V ,
U ´s 5 µm NMOSFETü < PMOSFET_ À Ó-
· ú
: £ ¤$ í ` ¦ ? /% 3 . NMOSFET_ â Ä º × ¼Y U \ 5 V, > s à Ô\ 10 V\ ¦ Ù þ ¡` ¦ M : z ´ : r \ " f 81 µA, 250
◦
C \ " f H 8¹ ¡ ¤ 7 £ x # 396 µA_ À Ó â ìØ Ô H כ s 8
£
¤& ñ ÷ &% 3 . PMOSFET_ â Ä º, × ¼Y U \ −5 V Õ ªo ¦
>
s à Ô\ −15 V\ ¦ Ù þ ¡` ¦ M : z ´ : r õ 250
◦C \ " f y y
0.85 µAü < 32.4 µA_ À Ó â ìØ Ô H כ Ü ¼ Ð z ¤
. s õ [ þ t É r Si è s ü < ° ú É r ¦ : r \ " f H 1 l x t
· ú § H כ \ q K SiC è ¦ : r \ " f 6 x H X < 8
&
h ½ + Ë < Ê` ¦ S X ¦ e [1].
: r ¸ 7 £ x \ É r MOSFET À Óü < ë H) 3 · ú _ o
\
¦ Õ ªa Ë > 3\ ? /% 3 . + þ A% ò % i \ " f ü @¶ ú Z O \ _ K 8 £ ¤
&
ñ ) a ë H) 3 · ú É r NMOSFET_ â Ä º z ´ : r{ 9 M : 7.8 V\
"
f 250
◦C{ 9 M : 5.4 V Ð y è % i ¦, PMOSFET H −17.2
Õ
ªa Ë > 2. z ´ : r õ ¦ : r \ " f 8 £ ¤& ñ ) a SiC NMOSFET õ
PMOSFET_ × ¼Y U À Ó-× ¼Y U · ú : £ ¤$ í (W/L =
60/5 µm/µm).
Õ
ªa Ë > 3. ë H) 3 · ú _ : r ¸ _ > r$ í .
V \ " f −12.6 V Ð 1 l x{ 9 > y è H כ s ' a¹ 1 Ï÷ &% 3 .
Mo > s à Ô\ ¦ MOSFET_ y è â ¾ Ó É r & ñ Si
>
s à Ô\ ¦ 6 xô Ç כ \ q K o& ñ ¸ ß ¼ 9 PMOSFET _
â Ä º H Õ ª o& ñ ¸ : £ ¤ y 8 d % i .
: r ¸ 7 £ x \ ë H) 3 · ú s y è H s Ä » H d (1) Ð ³ ð & ³÷ & H [ þ t s % ò ¾ Ó` ¦ p u H כ s [9].
V
t= Φ
M S+ 2φ
f+ Q
itC
OX+ Q
BC
OX(1) 0 A d (1)\ " f Φ
M S H F K5 Å q-ì ø Í ¸^ ç ß _ { 9 < ÊÃ º s , φ
f H ` Ø Ôp ï r0 Aü < $ í ` Ø Ôp ï r0 A_ s , Õ ªo ¦ Q
it, Q
B, C
OX H y y > , / B N 9 % ò % i , í ß o}
&
ñ 6 x| ¾ Ó` ¦ · p .
& ñ Si > s à Ô_ ë H) 3 · ú o H ` Ø Ôp ï r0 A
: r ¸\ _ K o < Ê\ > ï r0 A\ G 0 >f
\
_ K Q
it o÷ & H & ñ ¸ ë H) 3 · ú o_ © Å
Ò ) a " é ¶ s ) a H ¸+ þ A` ¦ & h 6 x , Mo > s à Ô\ ¦ 6
xô Ç MOSFET É r > 8 ´ ú § Õ ª o; ¤ s 8
H כ Ü ¼ Ð « Ñ ) a [9]. s Qô Ç õ H % 6 £ § \ V © ÷ &l \ Mo F K5 Å q_ : r ¸ o\ ` Ø Ôp ï r0 A o t · ú §
& ñ Si > s à Ô\ ¦ 6 x H â Ä º\ q K ë H) 3 · ú _
o 8 ` ¦ כ Ü ¼ Ð \ V © % i ~ כ õ H ì ø Í@ / ) a .
¢
¸ô Ç n+ þ A \ x 8 £ x \ ] j ô Ç H J r ' _ ¦Å Ò C-V : £ ¤$ í
Õ
ªa Ë > 4. > ´ òõ s 1 l x ¸_ : r ¸ _ > r$ í .
Õ
ªa Ë > 5. ¶ ú o s × ¼ü < q l & ñ § > = z ´o s × ¼ ] X 8 ú ¤_ I-V : £ ¤$ í q §.
\
" f y Û ¼_ o r Û ¼(hysterisis) _ \ O ¦, z ´ : r õ ¦ : r
\
" f e ¦Ï ? @ ½ × ¼ · ú _ o _ \ O ¦ ¦ : r \ " f z ´ : r
\
q K =/ B G ) a C-V : £ ¤$ í ` ¦ Ð# Å Ò ¦ e # Q í ß o} _
% ò ¾ Ó É r \ O ¦ > © { © y > r F H כ Ü ¼ Ð ó ø Í é
ß ) a .
+ þ A% ò % i \ " f ¨ î ô Ç > ´ òõ s 1 l x ¸(field effect mobliilty)_ : r ¸ _ > r$ í ` ¦ Õ ªa Ë > 4 \ ³ ð & ³ % i .
NMOSFET_ â Ä º z ´ : r{ 9 M : 19.1 cm
2/V-s \ " f 200
◦C { 9
M : 36.3 cm
2/V-s Ü ¼ Ð þ j@ / ° ú כ` ¦ · p Ê ê : r ¸ 8
¹
¡
¤ 7 £ x " f s 1 l x ¸ y è H â ¾ Ó` ¦ ? /% 3 .
:
£
¤ y , Mo > s à Ô H & ñ Si > s à Ô\ ¦ 6 xô Ç è [ þ t
\
q K Ä ºÃ ºô Ç s 1 l x ¸\ ¦ ? / ¦ e # Q · ú ¡\ " f \ V8 £ ¤
%
i 1 p w s > ´ ú §6 £ § \ ¸ Ô ¦ ½ ¨ ¦ Õ ª % ò ¾ Ós t C
&
h s t · ú § ¤ . PMOSFET_ â Ä º H NMOSFET \ q K
8 ± ú É r s 1 l x ¸ ° ú כ` ¦ ? /% 3 H X < s H & ñ / B N_ s 1
l
x ¸ \ q K l M :ë H Ü ¼ Ð ~ 1 > s K ) a . ¢ ¸ô Ç Mo > s à Ô_ â Ä º & ñ Si\ q K s 1 l x ¸ ¸ s `
ë H) 3 · ú o\ " f \ V8 £ ¤ô Ç ü < ° ú s Z } É r > x 9
¸ t C & h Ü ¼ Ð 6 xô Ç M :ë H Ü ¼ Ð ó ø Íé ß ) a .
Õ
ªa Ë > 5 H ¶ ú o s × ¼ ] X ½ + Ëõ 7 £ x Ã Ì ) a Ni/Ti ~ à Ì} ` ¦ [ þ t
#
Q? /l (lift-off) Ð ] X 8 ú ¤ Â Òì r s ü @ Â Òì r` ¦ ] j ô Ç Ê ê \ P % o
# ] X 8 ú ¤ Â Òì r \ ë ß + þ A$ í ) a z ´o s × ¼, 7 £ ¤ q l & ñ
§ >
= z ´o s × ¼, ] X ½ + Ë` ¦ q §ô Ç I-V : £ ¤$ í õ s . N+ þ A\
Õ
ªa Ë > 6. ] X 8 ú ¤ $ ½ Ó_ : r ¸_ > r$ í .
³
ð 1. p
+, n
++ þ A % ò % i _ $ ½ Ó.
z
´ : r 300
◦C p
++ þ A $ ½ Ó 100 kΩ/ 5.6 kΩ/
n
++ þ A $ ½ Ó 801 Ω/ 442 Ω/
] X
½ + Ë ) a â Ä º À Ó- · ú : £ ¤$ í s ¶ ú o s × ¼ ] X ½ + Ë É r q l
& ñ § > = ] X ½ + Ë\ q K É r $ ½ Ó` ¦ ? / ¦ e Ü ¼ 9, p+ þ A
\
] X ½ + Ë ) a â Ä º · ú s É r M : è q + þ A& h : £ ¤$ í ` ¦
Ðs ¦ e Ü ¼ ì ø Í& h Ü ¼ Ð 8 a % ~ É r ¸b : £ ¤$ í ` ¦ ° ú ¦ e
. ¢ ¸ô Ç p+ þ A\ " f q + þ A& h ¸b ] X 8 ú ¤ \ ¸ Ô ¦ ½ ¨ ¦ Õ ª a Ë
> 2_ I-V : £ ¤$ í \ H % ò ¾ Ó` ¦ p u t · ú §l M :ë H \ : r
½
¨\ " f ] jî ß ) a ¸b ] X 8 ú ¤ / B N& ñ É r p, n + þ A ] X 8 ú ¤ / B N& ñ ` ¦ 0 A K
þ j è ¿ º _ F K5 Å q / B N& ñ ` ¦ ô Ç Ü ¼ Ð é ß í H o½ + É Ã º e
H & h \ " f Ä »o . ¶ ú o s × ¼ ] X ½ + Ë É r ¢ ¸ô Ç, : r ½ ¨
\
" f ] j ) a è _ Ã º : x > & h ¾ º& h Õ ªA á Ô(cumulative plot)\ ¦ $ í ½ + É & ñ ¸ ÷ &t 3 l w % i Ü ¼ , 8 £ ¤& ñ ) a $ ½ Ó ° ú כ [
þ
t s q l & ñ § > = z ´o s × ¼ â Ä º\ q K Ð ç H{ 9
%
i . s " é ¶ É r J ` ¦ + þ A$ í ½ + É M : l > r \ 6 x ÷ &% 3 ~ [
þ
t # Q? /l / B N& ñ \ " f µ 1 ÏÒ q t÷ & H ~ Ã Ì} \ K t H Ó ü t o & h Û
¼à ÔY UÛ ¼ \ O l M :ë H \ © @ /& h Ü ¼ Ð ç H{ 9 ô Ç $ ½ Ó ° ú כ` ¦
%
3 ` ¦ Ã º e % 3 ~ כ Ü ¼ Ð ó ø Íé ß ) a .
Õ
ªa Ë > 6 É r : r ¸ o\ É r ] X 8 ú ¤ $ ½ Ó : £ ¤$ í _ o\ ¦
? / ¦ e . N+ þ A\ ] X ½ + Ë ) a ¶ ú o s × ¼ H z ´ : r õ 300
◦
C \ " f y y 5.5 × 10
−4Ω-cm
2õ 2.8 × 10
−4Ω-cm
2, p+ þ A ] X ½ + Ë_ â Ä º y y 1.8 × 10
−1Ω-cm
2õ 7.1 × 10
−3Ω-cm
2\ ¦ ? / ¦ e . P+ þ A ] X 8 ú ¤ $ ½ Ós Z } É r s Ä » H s
: r Å Ò{ 9 ) a Al É r 1600
◦C_ ¦ : r \ P % o Ê ê\ ¸ Ô ¦ ½ ¨
¦ 10 % s Ð Ö ¸$ í o Ö ¦ s B Ä º ± ú ¦ [6], % 3 ! s s' s : r
o \ -t % i r B Ä º & " f(E
A= 200 meV) z ´ : r \ " f s
: r o÷ &l # Q§ > l M :ë H \ ] X 8 ú ¤ $ ½ Óõ s : r o ) a % 3 ! s s' _
0 l x ¸, N
A−_ ' a > d (2)\ " f Ð1 p w s [10], ] X 8 ú ¤ $ ½ Ó
Õ
ªa Ë > 7. l ó ø Í % i · ú 7 £ x \ É r > s à Ô · ú -× ¼Y U
À Ó_ o(W/L = 40/40 µm/µm).
R
cß ¼> ) a .
R
c∼ exp
2
√
sm
∗~
Φ
Bq
N
A−
(2)
¢
¸ô Ç, : r ¸ 7 £ x R
cy è H X <, Õ ª y è & ñ
¸ H n+ þ A\ q K p+ þ A_ â Ä º 8 ß ¼ . s H s : r o \
-t @ /Â Òì r s z ´ : r \ " f ¸ s p s : r o _
s À Ò# Q n+ þ A\ q K , z ´ : r \ " f H s : r o Ö ¦ s ± ú É r
%
3 ! s s' [ þ t s : r ¸ 7 £ x " f s : r o÷ &# Q ´ ú § É r o\ ¦ Ä
» ¸ô Ç M :ë H Ü ¼ Ð [ O " î ) a .
z
´ : r \ " f_ ¶ ú o s × ¼\ _ ô Ç ] X 8 ú ¤ $ ½ Ó É r n+ þ A\ " f
%
3 É r ½ ¨_ õ 10
−3Ω-cm
2\ Ä » ô Ç ° ú כ` ¦ % 3 % 3 t
ë ß , p+ þ A_ â Ä º H Al` ¦ ¸b ] X 8 ú ¤ Ü ¼ Ð 6 xô Ç â Ä º H q
5 p wô Ç ° ú כ` ¦ Ðs t ë ß ½ ¨\ " f : x © Ð ¦÷ & H þ j è u
[ þ t ∼ 10
−3Ω-cm
2\ H p u t 3 l wô Ç [12]. s H ³ ð 1 \ & ñ o ) a Kelvin bridge J Ü ¼ Ð 8 £ ¤& ñ ô Ç p, n + þ A % ò % i Ü
¼ ÐÂ Ò' 8 £ ¤& ñ ô Ç $ ½ Ó ° ú כ` ¦ ÐK 4 § Ü ¼ Ð+ s K
0 p x . 7 £ ¤, p+ þ A_ z ´ : r $ ½ Ó ° ú כ` ¦ Al s ¸i ç ) a \ x
8 £ x \ " f 8 £ ¤& ñ ô Ç $ ½ Óõ q § # Ð \ V © ÷ & H % 3
!
s s' 0 l x ¸ H @ /| Ä Ì 2 ∼ 6 × 10
15/cm
3 Ð B Ä º ± ú : r
½
¨\ " f % 3 É r s : r Å Ò{ 9 ) a s : r_ Ö ¸$ í o Ö ¦ É r 1 % p ë ß
כ Ü ¼ Ð \ V8 £ ¤ ) a [11]. s % ! 3 ± ú É r s : r o Ö ¦ \ _ K
¶
ú o s × ¼ ] X ½ + Ës Õ ªa Ë > 5(b)_ ç ß _ & ñ À Ól I-V : £ ¤$ í
`
¦ ? /> ÷ & 9 ³ ð 1\ " f Ð1 p w s : r ¸ 7 £ x
$
½ Ó_ y è & ñ ¸ s : r o Ö ¦ s Z } É r n+ þ A\ q K Z 41 p x y
ß ¼ ¸2 ¤ ô Ç . " f, s : r Å Ò{ 9 Ö ¸$ í o / B N& ñ ` ¦ þ j& h
o # $ ½ Ó` ¦ 8¹ ¡ ¤ ± ú Æ Ò ¶ ú o s × ¼ ] X ½ + ËÜ ¼ ÐÂ Ò'
8 ± ú É r ] X 8 ú ¤ $ ½ Ó` ¦ % 3 ` ¦ Ã º e ` ¦ כ Ü ¼ Ð l @ / ) a .
¶
ú o s × ¼ ] X ½ + Ëõ p-Ä ºÓ ü t_ Ö ¸$ í o ¸ ú s À Ò# Q כ
`
¦ S X l 0 AK l ó ø Í % i · ú ` ¦ # ë H) 3 · ú ` ¦ ¸ ] X
K Ð ¤ . Õ ªa Ë > 7\ Õ ª õ \ ¦ ¸r % i H X < NMOS- FET_ â Ä º H % i · ú o\ _ K ë H) 3 · ú _ y è
Õ
ªa Ë > 8. ] X ½ + Ë_ s ¸× ¼ : £ ¤$ í .
S X
z ´y z ¤t ë ß PMOSFET_ â Ä º H Õ ª o y t
÷ &t · ú § ¤ . s õ H NMOSFET_ p-Ä ºÓ ü t 8 £ x õ p
+] X
½ + Ë% ò % i , Õ ªo ¦ ¶ ú o s × ¼ ¸b ] X 8 ú ¤ s s © & h Ü ¼ Ð 1 l x
¦ e 6 £ §` ¦ r 9, PMOSFET_ â Ä º H ` Ø Ôp ï
r0 A ¦& ñ ÷ &# Q l ó ø Í % i · ú _ ´ òõ t · ú §
% i · ú \ _ ô Ç ¾ º[ O À Ó : x Ð e H כ Ü ¼ Ð Æ Ò& ñ ) a
. NMOSFET H n+ þ A \ x 8 £ x \ B` ¦ s : r Å Ò{ 9 ¦ Ö ¸
$ í
o H כ \ q K n+ þ A l ó ø Í\ f ] X G V , s + þ A$ í ÷ & H PMOSFET H s ` ç ß é ß ô Ç / B N& ñ ` ¦ 2 ; ! l rs . t ë ß Õ
ª è _ : £ ¤$ í É r é ß í Hô Ç & ñ / B N õ _ s 1 l x ¸, s : r
o \ -t _ s \ _ ô Ç כ Ð n+ þ A \ x 8 £ x s ^ / B N
&
ñ , : £ ¤ y ¦ : r \ P % o \ ¦ u " f s : r Å Ò{ 9 ) a p- Ä ºÓ ü t8 £ x
\
q K \ P o ) a : £ ¤$ í s e H כ Ü ¼ Ð Ð . s H l ó ø Í õ
PMOSFET_ p
+s \ · ú - À Ó : £ ¤$ í ` ¦ Ð Õ ªa Ë >
8 õ ° ú s NMOSFET_ n
+ü < p-Ä ºÓ ü t s \ " f H )
t · ú §~ ¾ º[ O À Ó 10
−10∼ 10
−9A & ñ ¸ 8 £ ¤& ñ ÷ & H
כ
Ü ¼ ÐÂ Ò' Æ Ò& ñ ô Ç כ s . s ¾ º[ O À Ó H · ú ¡\ " f [ O " î ô
Ç ´ ú § É r PMOSFET_ > \ ¦ : x K â ìØ Ô , \ x 8
£
x \ ¸i ç Ô ¦í HÓ ü t Ð 6 x ) a | 9 è ¢ ¸ H SiC ^ ¦ : r
\ P
% o M : ì r K ÷ &# Q & ñ < Ê` ¦ ? /# Q À Ó: x Ð
÷
& H כ s Æ Ò& ñ ) a . " f, PMOSFET_ ¦ : r
\ P
% o , Ê ê_ : £ ¤$ í , ¢ ¸ô Ç s : r Å Ò{ 9 ) a s : r_ ´ òõ \ ¦ H
J r ' r « Ñ\ ¦ : x K ½ ¨½ + É 9 כ ¹ e .
Mo > s à Ô\ ¦ 6 xô Ç SiC è ¦ : r \ " f_ $ í 0 p x` ¦
8 7 £ x r v l 0 Aô Ç ~ ½ Óî ß ` ¦ ¦¹ 1 ÏK Ð ¤ . : r ½ ¨_ õ
\ Ø Ô , Mo > s à Ô\ ¦ MOSFET É r Si > s à Ô\ ¦
Õ ª כ \ q K ë H) 3 · ú _ o d ¦ PMOSFET
\
" f H s 1 l x ¸ ¤ . s & ³ © _ © Å Ò ) a " é ¶ É r >
x 9 ¸ H כ \ l Ù ¼ Ð, í ß o} _ | 9 ` ¦ > h
© { © Â Òì r > x 9 ¸\ ¦ y èr ~ ´ Ã º e Ü ¼o
: r . : r ½ ¨\ " f í ß o} _ $ í © ¸| É r ¦ : r \ P % o
\ ¦ u t · ú § É r MOS H J r ' è \ ¦ l ì ø ÍÜ ¼ Ð þ j
&
h o÷ &% 3 Ü ¼ z ´] j & h 6 x` ¦ 0 AK " f H ¦ : r \ P % o Ê ê_ l
ó ø Í0 A\ í ß o} ` ¦ l ì ø ÍÜ ¼ Ð þ j& h o÷ &# Q ô Ç . 8¹ ¡ ¤, PMOSFET_ s : r Å Ò{ 9 ) a ¸ à Ô[ þ t_ Ö ¸$ í o Ö ¦ s ± ú ] X
8 ú ¤ $ ½ Ós & " f & ñ © & h è 1 l x s ÷ &t · ú § ¤ . Ö ¸
$ í
o Ö ¦` ¦ Z } s l 0 AK " f H : r ½ ¨\ " f 6 xô Ç 1600
◦C _ ¦ : r Ð 8 Z } É r : r ¸\ " f \ P % o # K ½ + É Ã º e
. Õ ª õ , Ö ¸$ í o Ö ¦ s Z } t ¦ ` Ø Ôp ï r0 A z ´ : r
\
" f ¸ ½ × ¼\ s > r F # ] X 8 ú ¤ $ ½ Ós × ¦ # Q[ þ t ¦,
: r ¸7 £ x \ ` Ø Ôp ï r0 A o é Hy K 4 R ë H) 3
· ú
_ : r ¸ o ¸ × ¦ # Q[ þ t כ Ü ¼ Ð \ V © ) a , t ë ß 8 Z
} É r : r ¸\ " f_ \ P % o H ³ ð _ ì r K \ _ ô Ç Û ¼9 \ - g A(step-bunching) ° ú É r ë H ] j& h ` ¦ l r v Ù ¼ Ð ± ú É r : r
¸\ " f \ P % o # Ö ¸$ í o\ ¦ Z } s H ~ ½ ÓZ O s ] jî ß ÷ &# Q ô
Ç . s Qô Ç ~ ½ ÓZ O × æ © ´ òõ & h כ É r z ´ : r \ " f y © ô
Ç Y Us $ \ ¦ s : r Å Ò{ 9 ) a % ò % i \ ¥ ¸# º ¡ § Ü ¼ Ð+ Y Us $ y n
C_ f ¨ Ã º\ _ K í Hç ß & h Ü ¼ Ð 6 xÖ 6 x s { 9 # Q s : r[ þ t s
Ö
¸$ í o H ~ ½ ÓZ O s . s l Õ ü t` ¦ & h 6 x # : r ½ ¨ [ þ t s
SiC NMOSFET_ $ í / B N& h ] j õ \ ¦ Ð ¦ô Ç e
[8]. ¢ ¸ _ ~ ½ ÓZ O É r s : r Å Ò{ 9 / B N& ñ ` ¦ C ] j ¦ ] X
8 ú ¤ % ò % i \ Y Us $ \ ¦ ¸ à Ô\ ¦ < ÊÄ »ô Ç Û ¼\ ¦ f Ë 9Å Ò
" f Y Us $ \ _ K Û ¼\ ¦ ì r K r & í Hç ß & h Ü ¼ Ð 6 xÖ 6 x
)
a SiC l ó ø Í\ ¸i ç ÷ & ¸2 ¤ H ~ ½ ÓZ O ` ¦ & h 6 x½ + É Ã º e .
s
l Õ ü t \ _ K Si CMOS è $ í / B N& h Ü ¼ Ð ] j ÷ &% 3 Ü
¼Ù ¼ Ð s \ ¦ SiC \ & h 6 x # ¦0 l x ¸_ p
+\ ¦ + þ A$ í ½ + É Ã º e
Ü ¼o \ V8 £ ¤ ) a [12].
IV. + s Ç Â ] Ø
s
: r Å Ò{ 9 ) a p+ þ A Ä ºÓ ü t \ Mo > s à Ô F K5 Å q õ Ti/Ni ¶ ú o
s × ¼ \ ¦ n
+x 9 p
+ ¸b ] X 8 ú ¤ Ó ü t| 9 Ð : x{ 9 ô Ç 6H-SiC CMOSFET` ¦ ] j % i . ] j ) a MOSFET É r z ´ : r \
"
f Ð 250
◦C_ ¦ : r \ " f 8 H À Ó â ìØ Ô 9 8 £ ¤& ñ ) a
: r ¸ # 3 0 A\ " f s © & h 7 £ x + þ A(enhancement mode) à Ô
½ t Û ¼' 1 l x : £ ¤$ í ` ¦ ? /% 3 . NMOSFET_ ë H) 3
· ú
É r z ´ : r{ 9 M : 7.8 V\ " f 250
◦C{ 9 M : 5.4 V Ð y è
%
i ¦, PMOSFET â Ä º z ´ : r{ 9 M : −17.2 V\ " f 250
◦C{ 9 M
: −12.6 V Ð Õ ª y è ; ¤ s & " f > x 9 ¸ 8 Z }
É
r כ Ü ¼ Ð Æ Ò& ñ ÷ &% 3 . > ´ òõ s 1 l x ¸ H NMOSFET _
â Ä º 200
◦C \ " f 36.3 cm
2/V-s_ þ j@ / ° ú כ` ¦ Ð% i ¦, PMOSFET_ â Ä º H Z } É r > x 9 ¸ Ð K z ´ : r _
° ú כs B Ä º ± ú ¤Ü ¼ 9 250
◦C \ " f 2.31 cm
2/V-s_ þ j
@
/ ° ú כ` ¦ Ð% i . ¶ ú o s × ¼ ¸b ] X 8 ú ¤_ ] X 8 ú ¤ $ ½ Ó ° ú כ É r n
++ þ A ] X ½ + Ë\ H Ã º 10
−3Ω-cm
2_ ° ú כ` ¦ ? / ¦ e Ü ¼ p
+] X ½ + Ë\ " f H Z } É r $ ½ Ó\ _ K ] X 8 ú ¤ $ ½ Ós ¿ º Ã
º & ñ ¸ H ° ú כ` ¦ ? /% 3 . NMOSFET É r Mo > s à Ô ü
< ¶ ú o s × ¼ ] X 8 ú ¤` ¦ : x K ¦ : r : £ ¤$ í s ¾ Ó © ÷ &% 3 Ü ¼ PMOSFET É r ± ú É r s 1 l x ¸ü < Z } É r ] X 8 ú ¤ $ ½ Ó` ¦ ? /# Q s
\ ¦ > h H ~ ½ ÓZ O ` ¦ ] jî ß % i .
P c
p 8 ý ò k >
: r ½ ¨ H ô Dz D G õ < ÆF é ß : £ ¤& ñ l í ½ ¨(õ ] j ñ:
R01-2000-000-00264-0) \ _ K t " é ¶ ÷ &% 3 6 £ §.
Y c
p w à U Ø ô
[1] J. L. Prince, B. L. Draper, E. A. Rapp, J. N. Kro- nberg and L. T. Fitch, IEEE Trans. on Compo- nents, Hybrids and Manufacturing Technology 3, 571 (1980).
[2] D. B. Estreich and R. W. Dutton, Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems, IEEE Transactions on 1, 157 (1982).
[3] W. Xie, J. A. Cooper, Jr. and M. R. Melloch, IEEE Electron Device Lett. 18, 455 (1994).
[4] D. B. Slater, Jr., L. A. Lipkin, G. M. Johnson, A. V.
Suvorov and J. W. Palmour, IEEE Device Research Conf. (Charlottesvile, VA, 1995), p. 100.
[5] D. B. Slater, Jr., G. M. Johnson, L. A. Lipkin, A. V.
Suvorov and J. W. Palmour, Trans. 3rd Int. High- Temperature Elec. Conf. (HiTEC), (1996), p. 162.
[6] S. H. Ryu, K. T. Kornegay, J. A. Cooper, Jr. and M.
R. Melloch, IEEE Trans. on Electron Devices 45, 45 (1998).
[7] Q. Lu, R. Lin, P. Ranade, Y. C. Yeo, X. Meng, H.
Takeuchi, T. J. King, C. Hu, H. Luan, S. Lee, W.
Bai, C. H. Lee, D. L. Kwong, X. Guo, X. Wang, and T. P. Ma, International Electron Devices Meeting (San Francisco, Calif., 2000), p. 641.
[8] J. S. Choi, J. H. Song, C. W. Oh, J. B. Lee, K. H.
Kim, Y. S. Kim, K. H. Park and H. G. Lee, Sae mulli (New Phys.) 46, 88 (2003).
[9] W. S. Lee, C. W. Oh, J. S. Choi, D. H. Shin, H. G.
Lee, K. H. Park and Y. S. Kim, J. Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers, 15, 559 (2002).
[10] S. M Sze, Physics of Semiconductor Devices 2nd Ed.
(John Willy & Sons, New York, 1981), Chap. 5.
[11] J. Crofton, P. A. Barnes, J. R. Williams and J. A.
Edmond, Appl. Phys. Lett. 62, 384 (1993).
[12] P. G. Carey, K. H. Weiner and T. W. Sigmon, IEEE
Trans. Electron. Dev. 35, 2429 (1998).
High-Temperature Characteristics of SiC MOSFETs
Jae S. Choi,
∗Jang H. Lee, Bu H. Lee and Gun W. Lee School of Electrical and Computer Engineering, Chungbuk National University, Cheongju 361-763
Yeong S. Kim, Hyung G. Lee and Keun H. Park School of Electrical and Computer Engineering and Research
Institute for Computer and Information Communication, Chungbuk National University, Cheongju 361-763
(Received 25 Jun 2003)
We have fabricated SiC CMOSFETs operating at 250
◦C and have characterized the temperature- dependent performances of NMOS, and PMOS devices. The devices were composed of an ion- implanted p-well and p
+, n
+contacts, a planar device structure to avoid the Mo metal gate process, and Ti/Ni salicide ohmic contacts. The NMOS devices gates exhibited higher field-effect mobili- ties and higher drain currents compared to those with poly-Si gates, whereas the PMOS devices displayed inferior performances due to degradation. Salicide contacts on n
+contacts showed low contact resistance, but those on p
+contacts showed high resistance due to the low activation rate of the dopants. In addition, we examined factors for improving the characteristics of NMOS and PMOS devices at high temperature.
PACS numbers: 73.40.Qv, 73.40.Cg
Keywords: SiC, CMOSFET, Mo gate, High temperature
∗