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태양전지공학 Chapter 5

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Academic year: 2022

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(1)
(2)

Rs의 측정법

Chapter 5

(3)

기준 분광 산란 분포(TC-82)

(4)

Solar simulator의 특성

±10%

±5%

±2%

조사강도 안정성

±10%

±5%

±2%

조사강도면 내 균일성

±60%

±40%

±25%

기준 spectra로 부터의 차이

Class C Class B

Class A 성 능 등 급

Chapter 5

(5)

500W Xe lamp 분광 방사 조도의 lamp 전류 의존성

(6)

AM1.5 solar simulator의 분광방사특성

Chapter 5

(7)

Halogen lamp의 분광방사조도(색온도(color temperature) 3400K)

(8)

ELH lamp solar simulator의 분광방사특성

Chapter 5

(9)

Metal halid lamp의 분광방사특성

(10)

Xe flash lamp solar simulator의 분광방사특성

Chapter 5

(11)

2광원 solar simulator의 분광방사 특성

(12)

출력특성의 환산 및 보정

입사하는 광의 스펙트럼이 다르면, 출력특성, 특히 출력전류가 변화한다. 따라 서 단지 power meter로 강도를 측정하는 것으로는 불충분하고, 실제로 사용하는 측정용 광원과 측정에 쓰이도록 규정된 광원의 스펙트럼(예를 들면 AM1.5 등) 및 강도(예를 들면 100mW/cm2)와의 사이에 생기는 출력특성의 차를 비교하여, 옳은 출력을 얻을 수 있도록 보정해야 한다. 구체적인 방법(광강도의 보정법)에 는 ① 절대치 교정법, ② reference cell법이 있어 이하에 소개한다.

Chapter 5

(13)

기준상태에서의 전압값, 전류치, 방사조도 및 피측정 태양전지 cell 온도를 각각 V2, I2, E2, T2로 하여, 임의의 상태로 측정한 전압값, 전류치, 방사조도 및 피측정 태양전지 cell 온도 및 단락전류를 각각 V1, I1, E1, T1, Isc으로 하 였을 때, 다음 식을 사용하여 보정을 할 수 있다. 이 방법은 결정계 태양전 지에 대하여 JIS에 의해서 규정된 것이다.

여기서

α : 피측정 태양전지 cell 온도가 1°C 변동함에 따른 Isc의 변동치(A/°C) β : 피측정 태양전지 cell 온도가 1°C 변동함에 따른 Voc의 변동치(V/°C) Rs : 피측정 cell의 직렬저항(Ω)

K : 곡선보정인자(Ω/°C)

조도의존성 및 온도의존성

) (

) (

) (

) (

1

1 2

2 1

2 1

2 1

2

1 2

1 2 1

2

T T

KI I

I R T

T V

V

T E T

I E I

I

s sc

- -

- -

- +

=

-

÷÷ + ø ö çç è

æ -

+

=

b

a

(14)

(1) Isc 및 Voc의 온도계수 : α,β

방사조도 100±1mW/cm2에 있어서, 약 10°C의 간격으로 5점 이상 10∼70°C 의 범위로 온도를 변화시켜, 출력특성을 측정한다. 이때 태양전지의 온도가 충 분히 안정해야 하는 것에 주의해야 한다. 각 온도로 얻어진 IscVoc를 온도에 관하여 plot하여, 그것들을 최소 이승법으로 직선 근사한다. 이상의 수법으로 얻어진 직선의 경사를 출력전류의 온도계수 αc(A/°C) 및 출력전압의 온도계수 βc(V/°C)로 나타낸다.

module의 출력전류, 출력전압의 온도계수 및 는 다음 식으로부터 산출된다.

여기서 ηp는 module 내의 병렬접속 cell수, ηs는 직렬접속 cell수이다.

(2) 직렬저항 : Rs

Isc1 : 높은 방사조도에서의 cell의 단락전류 Isc2 : 낮은 방사조도에서의 cell의 단락전류

c s

c p

b h b

a h

a

×

=

×

=

2

1 sc

sc

s

I I

R V

-

= D

Chapter 5

(15)

직렬저항 Rs의 결정방법

(16)

(3) 곡선보정인자 : K

태양전지 cell이 쓰이는 온도범위에서 동시에 30°C 이상의 온도폭의 3점의 온도 T3, T4T5를 골라, 각 온도에서의 I-V 특성곡선을 방사조도를 한 점(예 를 들면 80mW/cm2)으로 설정하여 측정한다. K의 추정치(예를 들면 결정 silicon에서는 1.25×10-3W/°C)를 사용하여, T3로 얻어진 I-V 특성으로부터 다음 식을 적용하여, T4에서의 전류와 전압을 구한다.

여기에,

I3, V3 : T3에서의 I-V 특성 곡선상의 전류와 전압 I4, V4 : T4에서의 I-V 특성 곡선상의 전류와 전압

) (

) (

) (

3 4

4 3

4 3

4

3 4

3 4

T T

KI T

T V

V

T T

I I

- -

- +

=

- +

=

b a

Chapter 5

(17)

태양전지 측정의 flow chart

(18)

P-n 접합 태양전지의 재결합전류와 확산전류

Chapter 5

n-형 다수 반송자

P-형다수 반송자

p-형 소수 반송자

n-형다수 반송자

공핍층 재결합 (0.2-0.5V) 확산전류(0.5-0.6V)

n-형 다수 반송자

P-형다수 반송자

p-형 소수 반송자

n-형다수 반송자

공핍층 재결합 (0.2-0.5V) 확산전류(0.5-0.6V)

n-형 다수 반송자

P-형다수 반송자

p-형 소수 반송자

n-형다수 반송자

공핍층 재결합 (0.2-0.5V)

확산전류(0.5-0.6V)

(19)

실리콘 태양전지 전류-전압 특성의 주요 주도성분 요약

병렬저항 (Rsh 주도 +/- 0.1V) 공핍층

생성 주도

(n=2, -0.2V—0.45V)

0.6V

확산전류 (n=1 – 2 사이 0.45V-0.6V)

Log (I)

0. 1V 0. 2V 0. 45V

공핍층 재결합 (n=2

0.2V-0.45V)

직렬저항 (>0.6V) 고농도

주입전류 (n=2, >0.6V)

-0. 1V

공핍층 재결합 (0.2-0.5V)

Linear (V)

n-형 다수 반송자

P-형다수 반송자 p-형 소수 반송자

n-형소수 반송자 공핍층 재결합 (0.2-0.45V)

확산전류(0.45-0.6V)

병렬저항 (Rsh 주도 +/- 0.1V) 공핍층

생성 주도

(n=2, -0.2V—0.45V)

0.6V

확산전류 (n=1 – 2 사이 0.45V-0.6V)

Log (I)

0. 1V 0. 2V 0. 45V

공핍층 재결합 (n=2

0.2V-0.45V)

직렬저항 (>0.6V) 고농도

주입전류 (n=2, >0.6V)

-0. 1V

공핍층 재결합 (0.2-0.5V)

Linear (V)

n-형 다수 반송자

P-형다수 반송자 p-형 소수 반송자

n-형소수 반송자 공핍층 재결합 (0.2-0.45V)

확산전류(0.45-0.6V)

(20)

상업용(125mm×125mm) Si 태양전지의 전류-전압 특성곡선

Chapter 5

-0.4 -0.2 0.0 0.2 0.4 0.6

-0.05 0.00 0.05 0.10 0.15 0.20

PV1563i 17D1i 17D5i

Current(A)

Voltage(V)

-0.4 -0.2 0.0 0.2 0.4 0.6

1E-5 1E-4 1E-3 0.01 0.1

PV1563i 17D1i 17D5i

Log(A)

Voltage(V)

(21)

태양전지 재료특성 평가기술 요약도

(22)

Spreading resistance 측정법

Chapter 5 Plug Holder

Sample

Mounting Plug

Dz=Dx sinu Bevel Edge(x=0)

Mounting Block for Beveling Bevel Angle u

Original Surface(may have Oxide or nitride cover layer)

Beveled Surface

Probes aligned Parallel to Bevel Vertex

Plug Holder Sample

Mounting Plug

Dz=Dx sinu Bevel Edge(x=0)

Mounting Block for Beveling Bevel Angle u

Original Surface(may have Oxide or nitride cover layer)

Beveled Surface

Probes aligned Parallel to Bevel Vertex

(23)

반도체 표면과 탐침과의 접촉

2r I

r

2r I

r

(24)

SRP법을 이용한 도핑 프로파일 분석 결과

Chapter 5

Depth (㎛)

DopingDensity(cm-3 ) SpreadingResistance(V)

Depth (㎛)

DopingDensity(cm-3 ) SpreadingResistance(V)

(25)

± n -

± +

+ n+

n +

-주입이온

Auger 전자

준안정원자 중성전자

일차이온

반사이온

±

-ion +ion e

e

± n -

± +

+ n+

n +

-주입이온

Auger 전자

준안정원자 중성전자

일차이온

반사이온

±

-ion +ion e

e

스퍼터 현상

(26)

Chapter 5

SIMS 구성도

2nd ion image (Scanning)

2nd ion image (Scanning) 2차이온 검출계

2차이온 질량스펙트럼

M/E

Sellector 자장 Sellector 전장 대물렌즈

Condenser lens 1st Ion beam

ionsource

주사전원 시료

2nd ion CRT

2nd ion image (Scanning)

2nd ion image (Scanning) 2차이온 검출계

2차이온 질량스펙트럼

M/E

Sellector 자장 Sellector 전장 대물렌즈

Condenser lens 1st Ion beam

ionsource

주사전원 시료

2nd ion CRT

(27)

광간섭에 의한 절연막의 두께 측정

(28)

단차를 이용한 간섭현미경에 의한 막 두께 측정

Chapter 5

(29)

편광현미경의 원리도

Sample

Linearly Polarized

Extinction Detector Transmitted

Reflected Incident

f

no nI · jkI

Elliptically Polarized Linearly

Polarized Unpolarized

Laser Source

Sample

Linearly Polarized

Extinction Detector Transmitted

Reflected Incident

f

no nI · jkI

Elliptically Polarized Linearly

Polarized Unpolarized

Laser Source

(30)

광의 매질계면에서의 굴절과 반사

Chapter 5

(31)

기판상의 투명 박막에 의한 입사광의 다중반사

Si wafer

w0

i 입사광

1 n1 0 n0 2 n2

두께 d 매질 굴절률

반사광 r

Si wafer Si wafer

w0

i 입사광

1 n1 0 n0 2 n2

두께 d 매질 굴절률

반사광 r

(32)

스타일러스를 이용한 박막의 두께 측정

Chapter 5

X-Y 표시기 끝 플롯

움직이는 방향 샘플 스타일리스

시작

웨이퍼 표면

샘플 스타일리스

스텝

X-Y 표시기 끝 플롯

움직이는 방향 샘플 스타일리스

시작

웨이퍼 표면

샘플 스타일리스

스텝

(33)

XRD 구성도

Receiving slits

detector Rotating

specimen

2u u

collimating slits

X-ray

Source F

Diffractometer circle

Receiving slits

detector Rotating

specimen

2u u

collimating slits

X-ray

Source F

Diffractometer circle

(34)

SEM 구성도

Chapter 5

SCAN GENERATOR

MAGNIFICATION

DISPLAY CRT L

AMPLIFIER SYSTEM BSE Intensity

SE Intensity SPECIMEN

E.T DETECTOR Picture element(x,y) Pixel(X,Y,I)

EDX

DETECTOR BSE DETECTOR

SCAN COILS

OBJ LENS APERTURE OBJECTIVE LENS

X-선 2차

전자

SCAN GENERATOR

MAGNIFICATION

DISPLAY CRT L

AMPLIFIER SYSTEM BSE Intensity

SE Intensity SPECIMEN

E.T DETECTOR Picture element(x,y) Pixel(X,Y,I)

EDX

DETECTOR BSE DETECTOR

SCAN COILS

OBJ LENS APERTURE OBJECTIVE LENS

X-선 2차

전자

(35)

SEM 측정 결과 (Si 태양전지 단면)

(36)

TEM 개략도

Chapter 5

Condenser aperture Filament

Condenser lens 1

Sample

Objective lens Objective apert Back focal plane

Intermediate lens

1st image Aperture

Projector lens

Screen Condenser aperture

Filament

Condenser lens 1

Sample

Objective lens Objective apert Back focal plane

Intermediate lens

1st image Aperture

Projector lens

Screen

(37)

TEM 측정결과(Y2O3/Si)

(38)

XPS에서 광전자가 생기는 과정

Chapter 5 Incident

X-Ray XPS Electron

EK

Sample Surface Valence Band

Conduction Band

EL1 EL2,3

EV EC EF

EVac

Incident X-Ray XPS Electron

EK

Sample Surface Valence Band

Valence Band Conduction

Band

EL1 EL2,3

EV EC EF

EVac

(39)

XPS 시료측정실의 구성도

Electron Detector Electron

Analyzer X-Ray Source

Sample Counter

Electron Detector Electron

Analyzer X-Ray Source

Sample Counter

(40)

XPS 분석결과(Ru/RuO2/SiO2/Si)

Chapter 5

1000 800 600 400 200 0

0 2000 4000 6000 8000 10000 12000 14000

O1s Ru 3p1 Ru 3p3 Ru 4p

Ru 3d

Counts

Binding energy [eV]

Ru/RuO2

(41)

AES/SAM에서 오제 전자가 생기는 과정

Primary Electron Auger Electron (KL1L2,3)

EK

Sample Surface Valence Band

Conduction Band

EL1 EL2,3

EV EC

EVac 0 -

6 18

104 154

1844

Primary Electron Auger Electron (KL1L2,3)

EK

Sample Surface Valence Band

Valence Band Conduction Band

EL1 EL2,3

EV EC

EVac 0 -

6 18

104 154

1844

(42)

AES 시스템 개략도

Chapter 5

V

a

To Electron Multiplier

Magnetic Shield Sputter Ions

Sample Auger Electron Path Incident

Electrons V

a

To Electron Multiplier

Magnetic Shield Sputter Ions

Sample Auger Electron Path Incident

Electrons

(43)

AES를 이용한 depth profiling 분석결과(CeO2/Si)

0 2 4 6 8

0 10 20 30 40 50 60 70 80 90 100

Ce

C

O

Si

Sputter time (min)

C on ce n tr at io n ( at % )

(44)

복광속형 적외선 분광기의 블록 다이어그램

Chapter 5 광원 + 분광기

동기 증폭기 기록계

세로 증폭기

광초퍼 피측정 시료 광초퍼 광 검지기

감광기 표준시료

광원 + 분광기

동기 증폭기 기록계

세로 증폭기

광초퍼 피측정 시료 광초퍼 광 검지기

감광기 표준시료

(45)

푸리에 변환형 분광기(적외 분광용)

이동 밀러 Mm

광원(고압수은등)

고정 밀러 Ms

빔.스프리터(폴리에틸렌.테레프타레트막)

광검지기(고레이셀)

시료(투과 광 측정용) 이동 밀러 Mm

광원(고압수은등)

고정 밀러 Ms

빔.스프리터(폴리에틸렌.테레프타레트막)

광검지기(고레이셀)

시료(투과 광 측정용)

(46)

유전율의 실수부 ε1과 허수부 ε2의 각주파수 의존성(조화 진동자 모델)

Chapter 5

0

e

st

e

1

e

op

e

2

w

o

w

L

g

w

각주파수 0

e

st

e

1

e

op

e

2

w

o

w

L

g

w

각주파수

참조

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