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3D Computer Modeling on Phase Separated Porous Structure

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Journal of Korean Powder Metallurgy Institute Vol. 18, No. 2, 2011

DOI: 10.4150/KPMI.2011.18.2.172

172

상분리 다공 구조 형성에 대한

3

차원적 컴퓨터 모델링

김동욱·변지영a·차필령*

국민대학교신소재공학부, a한국과학기술연구원

3D Computer Modeling on Phase Separated Porous Structure

Dong-Uk Kim, Ji Young Byuna and Pil-Ryung Cha*

School of Advanced Materials Engineering, Kookmin University, Seoul 136-702, Korea

aFunctional Materials Center, Korea Institute of Science and Technology, Seoul, 136-791, Korea (Received March 4, 2011; Revised March 23, 2011; Accepted April 6, 2011)

Abstract We developed a 3D simulation model of microstructure evolution of vertically aligned porous struc- ture due to phase separation during film growth. The model proves its validity by reproducing the results of pre- vious researches which are topological features of the microstructures and effects of varied processing parameters.

The model will be extended by including bulk diffusion effect and elastic effect.

Keywords :Porous structure, Phase separation, 3D simulation

1. 서 론

다공성 수직 배열구조는 자기메모리[1, 2], 나노와

이어제작을위한템플릿, 잠재적으로는센서용재료

[3, 4] 각광을받고있다. 수직배열다공구조는

양극산화 알루미나에서 주로 얻어지거나, Al-Si,

Al-Ge 등의이원공정(binary eutectic)계의박막성장

분리 선택적 에칭에 의한 방법[5-7]으로

얻어진다.

특히박막성장 분리에의한다공구조발현 간단한 제작공정에비해높은기공밀도를 얻을 있기에주목을받았으며, 미세조직의발생원리에 대한이론적 접근과컴퓨터 모델링또한이루어졌다

[6, 8-10]. Atzmon et al.[8] 부피확산이표면확산

비해현저히느린조건으로가정하여, 표면확산이 지배적으로 작용하는 frozen bulk approximation 도입하여이론적연구를수행하였고, 연구를기초 이후몬테카를로시뮬레이션[9, 10]연속체모델

[6, 11] 수행되었다. 모두 2차원적 계산을 통해

이루어졌다.

기존의 이론/모델링 연구는 가지 공정변수인

박막성장속도, 증착 유속의 조성에 따른 미세조직

변화를 관찰하였다. 증착 유속의조성에 따라

종류의 미세조직이 얻어지는데, 1. 상분리가

생하지않은 미세조직, 2. 원기둥형태의상분리

세조직, 3. 전형적인스피노달 분해 패턴의수직

구조가 얻어졌다. 증착 유속이 공정(eutectic)

성과 유사한 조건으로 주어질 경우 2 해당하는

미세조직이 얻어지며, 그것으로부터 충분히 벗어난 조성에서는 1 또는 3 미세조직이얻어진다. 박막

성장속도가증가함에 따라서원기둥 형태의상분리 영역의 직경과, 원기둥사이의 간격이 감소하는 향이 밝혀졌다.

박막성장상분리에의한다공구조는부피확산 응력효과 3차원적 효과들이 추가될 더욱 다양한 형태의미세조직을얻을 있을 것으로 대되나, 아직 3차원적 모델링은수행되지않았다. 연구에서는 3차원적시뮬레이션모델을개발하고, 연구의결과들을재생성하여모델의정당성을 인다.

*Corresponding Author : [Tel : +82-2-910-4656; E-mail : [email protected]]

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상분리 다공 구조 형성에 대한 3차원적 컴퓨터 모델링 173

Vol. 18, No. 2, 2011

2. 상장모델(Phase field model)

박막성장과정은기상/고상간의상변태로 다뤄질 있다. 과정을 모사하기 위해 상장모델[12] 도입되었다. 상장모델은상을 나타내는 가상의변수 도입하여그것의연속적 분포의변화로써상변태 현상을정확히모사하는모델이다. 연구에서상장 변수의분포는고상의경우 1값을가지고, 기상의 0 가지며, 고상/기상계면은 0 1사이로, 연속 적이고부드럽게 증가하는 분포를 가진다. 박막성장 과정은 고상의박막이 일정한성장속도로자라는 황으로써 설정되었다. 경우 상장변수 φ에 대한 지배방정식은 (1)같이주어진다.

(1)

여기서 이며,

α는 박막 성장 구동력인자로서 박막성장속도 ν와 관계로연관된다. Mφ, ε과 wφ 뮬레이션인자이다.

상분리 현상을모사하기 위해 확산방정식이 도입 되었다. 이원공정계의고상에서의확산과정을도입하

위해 Cahn-Hilliard 방정식[13] 수정된 형태를

사용했다. Cahn-Hilliard 방정식의 원형에 기상에서

고상 표면으로 흡착되는 원자들의 유속과 고상표면 에서 고상내부로 흡착되는 원자들의 유속이 고려되 었다. 고상 내부의확산계수가표면의확산계수보다 매우작다는 근사를이용하여고상표면에서의확산 만을다루도록수정되어 (2)같이주어진다.

(2)

여기서 자유에너지 범함수이고,

피적분 범함수는 자유에너지밀도로 (3) 주어 진다.

(3)

그리고 ,

각각 상장변수와 농도변수에대한 우물 포텐 범함수이며, 농도변수에대한 우물 포텐셜 함수는 농도 에서 최소를 설정이 되었다. 원자이동 함수로, 원자 확산이고상/기상 계면에서만 발생 하는 것을 나타낸다. M0, wC β는 시뮬레이션

자이다. 박막표면에서박막내부를 하는방향을가지는단위벡터이다.

그림 1시뮬레이션계에대한개요도이다. 시뮬 레이션은 입방체의 가상의 상자 안에서 이루어졌으 좌표계는 데카르트 직교좌표계를사용하였다. 막은 X방향으로성장하는 것으로설정되었다.

경계조건으로는 Y, Z 방향에대해주기경계조건이 주어졌고, X방향에 대해 단열경계조건이 주어졌다.

시뮬레이션 상자 표면의모든 분포의 X 대한 변화율은 0으로설정이되었다. 초기조건으로서상자 내부에 상장변수와농도분포가 주어졌다. X = 1면으

로부터 X = 7면에 걸쳐 상장변수는 1, 농도는 C0

설정되었으며 영역은 상장변수는 0, 농도는

C0+C설정되었다. C -0.2에서 0.2 사이의 가지는농도섭동이다. 고상과기상의계면영역에 상장변수가 부드러운 분포를이루도록 1000회의 비계산을수행하였다.

3. 결과 및 고찰

시뮬레이션은유한차분법을이용해 (1) (2) 해를구함으로써이루어졌고, 유한차분의적분방법은

Euler 방법을 사용하였다. 사용된 차분점 수는

80×80×80개이며, 차분점간격 이다. 시뮬레

이션에필요한 인자들은, 고상/기상 계면 두께, 상장계면이동도, 원자 이동도, , 의 평형농도,

의 농도분리 에너지 장벽, β2= 농도분포구배에너지 인자, 상장변수

∂φ∂t

---=Mφ[ε22φ w φg′ φ( )]

g′ φ( ) ∂g φ= ( ) ∂φ =2φ(1φ)(1 2 φα) α ν= 2ε2wφ

∂C∂t

--- ∇ Mc( ) ∇δFφ δC---∇ δFδC---p⎞p C0∂φ

---∂t

+

=

F f φ C( , ) Ωd

=

f φ C( , ) wφg φ( ) ε2----2∇φ2 wCfC( ) βC

2

2---∇C2

+ + +

=

g φ( ) φ= (1φ)2 fC( )C =(C C e X, )2(C C e Y, )2

C C= e X, C C= e Y,

MC( )φ =4M0φ(1φ)

p ∇φ ∇φ=

∆l=107 2λ=6∆l

Mφ=1.0 M0=108

Ce X, =0.2 Ce Y, =0.8 wC=103 18(σ×105)2wC

ε2=3λσ

Fig. 1. Schematic figure for the simulation system.

(3)

174 김동욱·변지영·차필령

Journal of Korean Powder Metallurgy Institute

구배에너지인자, 고상/기상상변태 에너지장벽으로설정되었다. 유한차분법에서사용되

단위시간차분 으로 정하

였다. 박막 성장 속도 ν와 증착유속의 조성 C0 공정변수로, 조작 가능한인자로남겨두었다.

그림 2 3차원시뮬레이션의대표적인결과를

타낸다. 계산 조건은 박막 성장 속도 ν= 2.0, 증착

유속조성 C0= 0.5경우이다. 그림 2표면형상은

C= 0.5 해당하는 표면을 시각화하였으며, 그림의

색상은농도를표현한다. 박막표면에서의확산에 미세조직형상의평균곡률이감소하는 방향으로 미세조직이변화한다. 박막성장초기에분리되어 생성상들이구형으로형성되고, 박막이성장함에 따라분리된상의선두부의직경은점차증가하여 상상태에 이르게 된다. 이런 경향은 [9] 몬테카를 시뮬레이션과동일하다.

그림 3 정상상태에서 증착 유속의조성에 따른 농도분포의박막에단면도이다. 그림 3농도분포는 정상상태에도달한시점에서얻은것이다. 박막성장

속도는 모든 경우에 대해 ν= 2.0 고정되었다.

C0= 0.3 경우 농도 분리가발생하지 않고 초기의

농도를 유지했고, C0= 0.5 경우는 원기둥 형태의

농도분포를 확인할있었다. C0= 0.7경우는 알려진스피노달분해패턴을얻었다.

결과는몬테카를로시뮬레이션들의미세조직

달과는 다른경향을 나타낸다[9, 10]. 몬테카를로

뮬레이션의경우 C0= 0.5경우부터전형적인 스피 노달 패턴이 얻어지며, 분리된 상들은 양적 균형을

이룬다. 그러나 그림 3 결과는마치 C0> 0에서

러한 균형이 이뤄질 것으로 짐작된다. 상분률의

대칭조성이공정(eutectic)조성으로부터벗어났다.

차이가 발생하는 이유는농도 분포의구배 에너

효과로설명할있다. 상분리가발생하기 위해 서는상분리의구동력이, 상분리에의해발생하는 도구배에너지, 계면에너지를충분히극복할 만큼제공되어야한다. 이런관점에서고려한다면

C0= 0.5 경우에전형적인 스피노달패턴이발생하

않음은 자연스럽게 이해된다. 효과는 이론적 접근을 시도한 [8]에서도 언급되었다. 뿐만 아니라

Al-Si계의상분리 실험을통한결과[5 Fig. 3]에서

또한그림 3결과와같은비대칭적결과를확인할 있다.

그림 4 박막성장 속도에 따른 농도분포 변화 나타낸그림이다. 증착유속의농도 C0= 0.5 정되었다. 박막 성장 속도가 빠를수록 분리된 상의 영역의 직경과간격이감소하는 것을 확인할 wφ=6σ λ

∆t=0.01×( )l2(2M0wC)

3λσ

Fig. 2. Temporal evolution of the system; ν= 2.0, C0= 0.5: Snap shots are obtained at (a) t = 100000t, (b) t = 300000t, (c) t = 500000t and (d) t = 700000t.

Fig. 3. For ν= 2.0, X-direction cross sectional image of composition distribution at steady state for (a) C0= 0.3, (b)

C0= 0.5 and (c) C0= 0.7. (d) is a contour level for the figs.

(4)

상분리 다공 구조 형성에 대한 3차원적 컴퓨터 모델링 175

Vol. 18, No. 2, 2011

. 박막성장 속도가빠를수록 확산에허용되는 간이 짧아져 결국 작은 확산 거리를 가질 밖에 없기때문이다. 기존에수행된연구와도맞아떨어

지는경향이다[5, 8, 9].

4. 결 론

박막 성장과정에서 표면확산에 의한 상분리를 생시키는 계에 대한 3차원 시뮬레이션모델을 개발 하였다. 가지공정변수인박막성장속도 ν와 유속 조성 C0 따른 농도분포를 조사한 결과,

증착유속조성에따라크게가지미세조직, 분리가발생하지않은조직, 원기둥형태의미세조직,

전형적인 스피노달 패턴의미세조직을얻었다. 또한 박막성장속도가커짐에 따라분리된 영역의 경과 간격이감소함을 확인할 있었다. 기존의 연구에서밝혀진사항들을 묘사하는시뮬

레이션모델이 개발되었음이 확인된다. 연구에서 개발된 모델은부피확산에대한영향과상간불일치 변형률에 의한 탄성 효과를고려할 있도록 확장 되어 미세조직 제어 방법에대한 연구로발전될 이다.

감사의 글

연구는 지식경제부 지식경제 기술혁신사업

09010020, 조성/구조제어에의한고기능다공성

소재기술사업의자금을지원받아수행되었음.

참고문헌

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Fig. 4. Composition distribution at fixed flux composition,

ν= 0.5 with varying film growth rate: (a) ν= 1.0, (b)

ν= 2.0, (c) ν= 3.0 and (d) ν= 4.0.

수치

Fig. 1. Schematic figure for the simulation system.
Fig. 2. Temporal evolution of the system;  ν = 2.0,  C 0 = 0.5: Snap shots are obtained at (a) t = 100000 ∆ t, (b) t = 300000 ∆ t, (c) t = 500000 ∆ t and (d) t = 700000 ∆ t.
Fig. 4. Composition distribution at fixed flux composition,

참조

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