가. 국내 특허출원 동향
<그림 1-11>은 광 증폭분배기에 대한 한국특허 출원동향을 나타낸 것이다. 1985 년 Corning이 유리 집적 광학소자 및 제조방법에 대하여 특허를 출원한 이후 2000년 최대 5건이 출원되었다. 전반적으로 출원율이 매우 낮은 수준에 있으나 2000년에 출원건수가 많아지고 있다는 점에서 향후 연구개발에 대한 성과를 기대 해 볼 수 있겠다.
<그림 1-11> 광 증폭분배기에 대한 한국특허 출원동향
1985 1988 1989 1992 1993 1994 1995 1998 2000
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<그림 1-12>는 한국특허에 대한 주요 출원인을 나타낸 것으로서, 한국전자통신 연구원이 4건으로 가장 많은 특허를 출원하고 있으며, 그 다음으로 Corning, AT&T, 삼성전자, 이형종이 각각 2건, TRW, 한국과학기술원, 서울대가 각각 1건 등의 순서이다.
하겠다.
국내특허의 주요출원인 랭킹을 통해 파악되는 또 다른 특징으로는 해외특허동 향에서 특허기술을 주도하고 있는 일본기업 출원인이 없다는 점이다. 국내에 특허 를 출원하고 있는 해외기업사는 AT&T (미국), Corning (유럽), TRW (유럽)로서 모두 미국과 유럽의 기업들이다. 이는 국내시장이 아직 활성화되어 있지 않은데 기인되는 것으로 판단되며, 국내에 특허를 출원하고 있는 상기의 출원인들은 특허 기술의 국제화에 높은 비중을 두고 있는 것으로 추측된다.
<그림 1-12> 주요 출원인 랭킹
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한국전자통신연구원 CORNING AT&T 이형종 삼성전자 TRW 한국과학기술원 서울대학교
나. 국내 주요 특허기술 분석
현재 국내에 특허로서 출원공개 되어 있는 광 증폭분배기 관련 주요 특허기술 의 내용을 기술분야별로 살펴보면 다음과 같다.
(1) 공정
공정에 관한 특허기술로는, Corning이 V-홈에 위치된 광섬유의 광축이 도파로의 광축에 일련되도록 서로 배치되는 이온 교환에 의해 표면 내부에 형성된 광도파 로로 구비하는 유리 집적 광학소자 및 제조방법에 특허(한특고 1994-1044)를 출원 하였고, 광섬유가 쉽고 정확하게 일렬이 되게 하는 집적 광학 소자의 제조방법에
대하여 특허(한특개 1989-8588)를 출원하였다.
특허(한특개 1998-87218)를 출원하였다.
이외에도 이형종은 자외선 레이저를 이용한 배열 도파로 격자 소자의 손실을줄 이는 방법(한특개 2001-73496)에 대하여 특허를 출원하였으며, 한국전자통신연구원 은 이종 접합 평판 도파로형 광증폭기 제조 방법(한특등록 363887)에 대하여 특허 를 출원하였다.
(3) 광제어
광제어에 관한 특허기술로는, 한국전자통신연구원이 출원한 특허로서 평판형광 증폭기 및 그를 이용한 광소자 제조방법(한특등록 304361)이 있다.
(4) 기타
이외에도 AT&T가 광학 집적 회로(한특개 1993-9100)에 대하여 특허를 출원하였 으며, 서울대학교는 도파관-마이크로스트립 변환 구조를 이용한 전력 결합기(한특 개 2001-112034)에 대하여 특허를 출원하였다.