ISSN 2465-8111 DOI http://dx.doi.org/10.18770/KEPCO.2015.01.01.151
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Development and Characterization of High Temperature Superconducting Wire for Superconducting Cable System
초전도 케이블용 고온초전도 선재의 개발 및 특성평가
Byoungjean Mean, Jae-Hun Lee, Young-Soon Kim, Hunju Lee and Seung-Hyun Moon 민병진†, 이재훈, 김영순, 이헌주, 문승현
SuNAM Co., Ltd, Anseong, Gyunggi-do 456-812, Korea
† E-mail: [email protected]
Abstract
In order to improve the properties of high-temperature superconducting wire for superconducting cable system, we optimized the electro-polishing (EP), ion-beam assisted deposition (IBAD), superconducting (SC) layer, and baking (heat) treatment. The buffer layer was deposited on electro-polished substrate with RMS roughness (R
RMS) less than 5 nm. The IBAD process was carried out at V
beam: 1100 V and V
accel: 850 V that resulted in highly crystalline film of LaMnO
3. Chemical composition of SC layer is key to higher critical current, and we found that composition can be determined by surface color of SC layer. We adopt a proprietary contorl system based on RGB analysis of the surface and achieved critical current of 150 A/4 mm-width. The proposed baking treatment resulted in decreasing of about 10% of fraction defects.
Keywords: Superconducting wire, reactive co-evaporation, cable, critical current
I. 서론
지속적으로 증가하고 있는 전력 소비와 이에 따른 전기 에너지 부족 문제를 해결하기 위해서는 냉난방이 나 조명 규제, 대기전력 기준 강화 등 수요자의 전기절 약을 강제하기 위한 정책과 요금인상을 통한 에너지 가 격구조의 합리화 등의 방법 외에도 발전, 변전, 송배전 계통에서 손실되는 전력을 감소시키기 위한 적극적인 노력이 필요하다. 이러한 노력의 일환으로 전 세계적으 로 초전도 전력기기에 대한 연구개발이 진행되고 있으 며, 기존의 전력기기와는 비교되지 않는 우수한 통전 손 실 저감특성으로 인해 송전손실을 30% 이상 줄일 수 있 어 미래의 친환경/고효율 기기로 주목을 받고 있다. 초 전도 선재는 초전도 전력기기의 핵심소재로서 세계 초 전도 시장 선점과 기술경쟁력을 갖추기 위해선 초전도 선재의 대용량화 및 국산화는 최우선으로 해결해야 할 과제이다.
한국전기연구원(KERI), 한국재료연구소(KIMS), 한국 원자력연구원(KAERI) 및 한국표준과학 연구원(KRISS)을 중심으로 1990년대 초반부터 고온초전도체 물질연구, 재 료 및 공정개발, 초전도 기기 및 소자 응용연구가 꾸준 히 진행됐으며, 현재는 여러 기업과 학교에서 초전도 관 련 기술개발을 진행하고 있다. 서울대학교에서는 고온초 전도 박막 선재 제조를 위한 핵심 원천기술인 Reactive Co- Evaporation Deposition & Reaction (RCE-DR) 공정 [1]- [3] 원천기술을 (주)서남과 공동으로 개발하여 세계적으 로 주목을 받고 있으며, 또한 고온초전도 선재 제조에 필수적인 금속기판 기반의 이축 배향된 막을 얻기 위하 여 Ion-Beam Assisted Deposition (IBAD) 공정을 국내 최초
로 성공하였다. KAIST에서는 차별화된 동시증발법으로 초전도층을 증착할 수 있는 공정 기술을 개발하였으며 이축 배향 금속기판 위에 Sm
1Ba
2Cu
3O
7-δ초전도층을 입 힌 고온초전도 선재를 세계 최초로 제조하였다. 한국산 업기술대학교에서는 MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)법으로 Y
1Ba
2Cu
3O
7-δ초전도층을 증착할 수 있는 제조 방법을 연구하였고, 주로 용액법으로 고온 초전도 선재를 제조하는 공정 기술 연구를 수행하면서 금속기판 표면을 평탄화하는 용액공정과 스퍼터링 silver 코팅공정을 대체할 수 있는 용액코팅공정을 개발한 바 있다. 이화여자대학교에서는 고온초전도 선재의 초전도 물성을 심층적으로 평가하기 위하여 레이저나 Raman 분 광법을 이용하여 RE
1Ba
2Cu
3O
7-δ(RE: rare earth) 초전도체 의 미세구조와 임계전류와의 상관관계를 밝혀내는 기초 연구를 수행하고 있다. 안동대학교에서는 고온초전도 선 재의 전기-기계적 특성을 평가하는 연구를 수행하여 초 전도 선재 특성 평가기술을 개발하였다.
㈜서남의 초전도 선재는 (1) 전해연마(electro- polishing; EP), (2) 확산방지층 및 종자층 성막(multi- reactive deposition system; MRDS), (3) 버퍼층 성막(ion beam assisted deposition; IBAD), (4) 버퍼층 열처리(buffer layer heat treatment; BLHT), (5) 초전도층 성막(reactive co- evaporation by deposition and reaction, RCE-DR), (6) 안정화 층 증착(silver sputtering, Ag-sputte), (7) 산소 열처리(O
2annealing; BOX), (8) 보호층 1차 증착(copper sputtering; 12
mm Cu-sputte), (9) 슬리팅(slitting), (10) 보호층 2차 증착
(copper sputtering; 4 mm Cu-sputter), (11) 전해동도금(copper
electro-plating, EPL), (12) 베이킹 열처리(baking heat
treatment), (13) 표면 전처리(sanding), (14) 라미네이션
(lamination)㦮 ⽋㧷䞲 ὒ㩫㦚 䐋䟊 㩲㫆♲┺. Ṗ㧻 㭧㣪 䞲 㽞㩚☚䂋 ㎇Ⱏ Ὃ㩫㦚 ₆㭖㦒⪲ 㩚(衔)Ὃ㩫ὒ 䤚(趒) Ὃ㩫㦒⪲ ⋮⒮Ⳇ, 㡆ῂṲ㦖 㩚(衔)Ὃ㩫㦮 㽞㩚☚䂋㦚 㩲㣎䞲 ⋮Ⲏ㰖 Ὃ㩫㦖 ⻚䗒䂋 㞞㩫䢪 ૹ ⯒ ⳿㩗㦒⪲, 㽞㩚☚䂋 ㎇Ⱏ Ὃ㩫㦖 㽞㩚☚䂋 ㎇⓻䟻㌗ૹ㦚 ⳿㩗㦒
⪲, 䤚(趒)Ὃ㩫㦖 䕾䋺㰫 ₆㑶䟻㌗ૹ㦚 ⳿㩗㦒⪲ 㰚䟟 䞮㡖┺. (Table 1, Fig. 1 㺎㫆) G
Fig. 2⓪ 㞴㍲ ㍺ⳛ䞲 Ὃ㩫㦚 䐋䟊 㩲㫆♲ 㽞㩚☚ ㍶ 㨂㦮 ┾Ⳋ ῂ㫆㧊┺. 㽞㩚☚ ㍶㨂㦮 㧚Ἒ㩚⮮ 䔏㎇㦚 䟻
㌗㔲䋺₆ 㥚䟊㍶ 㽞㩚☚䂋 ㎇Ⱏ㧊 Ṗ㧻 㭧㣪䞮Ⳇ ⻚䗒 䂋㦮 ㎇Ⱏ ㌗䌲 ⡦䞲 㡗䟻㦚 ⹎䂲┺. ⽎ ⏒ⶎ㦖 㽞㩚☚
㍶㨂⯒ ῂ㎇䞮ἶ 㧞⓪ ṗ 䂋 Ṛ ㌗ὖὖἚ⯒ ⳛ䢫䧞 䞮 ἶ, ṗṗ㦮 㩲㫆 Ὃ㩫㦚 Ṳ㍶䞮㡂 㽞㩚☚ ㍶㨂㦮 ㎇⓻㦚 䟻㌗㔲䋾 ⌊㣿㦚 ₆㑶䞮ἶ㧦 䞲┺. ⡦䞲 㽞㩚☚ ㍶㨂㦮 䛞㰞㦚 㧒㩫䞮Ợ 㥶㰖䞮₆ 㥚䟊 Ṳ䞮㡂 㩗㣿䞮ἶ 㧞
⓪ 䛞㰞ὖⰂ⻫ὒ 䤚(趒)Ὃ㩫㦮 ⨟ 㤦㧎 Ṳ㍶ ⌊㣿 㦒⪲ ⰞⶊⰂ䞮ἶ㧦 䞲┺.
II.
㡆 㡆ῂ⺆ἓ 㔺䠮
A. ⻚䗒䂋 㞞㩫䢪⯒ 㥚䞲 EP Ὃ㩫 Ṳ㍶
Fig. 3㦖 㽞㩚☚ ㍶㨂㦮 Ṗ㧻 㭧㣪䞲 ㎇⓻㧎 㧚Ἒ㩚
⮮㢖 㩚(衔)Ὃ㩫㦮 ㌗ὖὖἚ⯒ ⋮䌖⌎ ộ㧊┺. 㧚Ἒ㩚⮮
⯒ 䁷㩫䞲 㽞㩚☚ ㍶㨂⓪ 䚲 1㦮 㧒 ⻞㱎 Ὃ㩫㧎 BOX 㡊㻮Ⰲ⯒ Ệ䂲 12 mm 䙃㦮 ㍶㨂㧊┺. Fig. 3(a)⓪ 㩚 䟊㡆Ⱎ(1) Ὃ㩫 ⁞㏣₆䕦㦮 䚲Ⳋ, MRDS(2) Ὃ㩫 㧊䤚 Y
2O
3䂋㦮 䚲Ⳋ IBAD(3) Ὃ㩫 㧊䤚 LaMnO
3(㧊䤚
LMO) 䂋㦮 䚲Ⳋ 䘟‶Ệ䂶₆(R
RMS)㢖 㧚Ἒ㩚⮮ Ṛ㦮 ㌗ ὖὖἚ⯒ ⋮䌖⌎ ⁎Ⱂ㦒⪲ 䚲Ⳋ㧊 ⰺ⊚⩂㤎㑮⪳ 㧚Ἒ㩚
⮮Ṗ 㯳Ṗ䞮⓪ ἓ䟻㦚 ⽊㧎┺. Fig. 3(b)⓪ ⻚䗒䂋㦮 ἆ㩫
㎇ὒ 㧚Ἒ㩚⮮ Ṛ㦮 ㌗ὖὖἚ⯒ ⋮䌖⌎ ⁎Ⱂ㦒⪲ ⻚䗒 䂋㦮 ἆ㩫㎇㧊 㤆㑮䞶㑮⪳ 㧚Ἒ㩚⮮Ṗ 㯳Ṗ䞮⓪ ἓ䟻㦚
⽊㧎┺. Fig. 3(c)⓪ ṗ 䂋 Ṛ 䚲Ⳋ 䘟‶Ệ䂶₆㢖 ⻚䗒䂋㦮 ἆ㩫㎇ Ṛ㦮 ㌗ὖὖἚ⯒ ⋮䌖⌎ ⁎Ⱂ㦒⪲ 䚲Ⳋ㧊 ⰺ⊚
⩂㤎㑮⪳ ⻚䗒䂋㦮 ἆ㩫㎇㧊 㤆㑮䞾㦚 㞢 㑮 㧞┺. Ⱎ㰖 Ⱏ㦒⪲ (a), (b), (c)㦮 ⁎⧮䝚⯒ 㰧㟓䞮㡂 Fig. 3(d)⪲ ⋮䌖
⌊㠞┺.
Fig. 3㦒⪲䎆 EP Ὃ㩫(1)㦚 Ⱎ䂲 ⁞㏣₆䕦㦮 䚲Ⳋ 㧊 Ệ䂶㑮⪳ 㽞㩚☚ ㍶㨂㦮 㧚Ἒ㩚⮮⓪ Ṧ㏢䞮⓪ ἓ䟻 㦚 ⋮䌖⌊Ⳇ, 㧊䤚 㰚䟟♮⓪ Ὃ㩫✺⽊┺ 㧚Ἒ㩚⮮㠦 ⹎ 䂮⓪ 㡗䟻㧊 ▪ 䋆 ộ㦚 㞢 㑮 㧞┺. ⁎⩂⋮ 㾲㩗㦮 㩚 䟊㡆Ⱎ 㫆Ị㦚 㩗㣿䞮▪⧒☚ Ὃ㩫 Ⱎ┺ ┺㟧䞲 Ệ䂶₆ (R
RMS= 1~20 nm)㦮 ₆䕦 ㌗䌲⯒ ⋮䌖⌊⓪ ⶎ㩲㩦㧊 㧞㠞
┺. 㧊㠦 ╖䟊 㞫㡆㦒⪲ 㧎䞲 㡺㡒ⶒ㰞㧊 㡆Ⱎ⯒ 䟊䞮
₆ ➢ⶎ㧎 ộ㦒⪲ 䕢㞛䞮ἶ ┺㟧䞲 㧊ⶒ㰞 㩲Ệ ⻫㦚 㔲☚䞮㡖┺. R
RMSὒR
NN(Ṗ㧻 Ṗ₢㤊 䁷㩫 㥚䂮⋒Ⰲ㦮 ⏨ 㧊 㹾㧊㦮 䘟‶Ṩ)⓪ 㤦㧦䡚⹎ἓ(atomic force microscope AFM)㦚 㧊㣿䞮㡂 10 × 10 μm
2⍩㧊㠦㍲ 䁷㩫䞮㡖㦒Ⳇ,
₆䕦㦮 㧒⯒ 㿪㿲䞮㡂 䁷㩫䞲 㧚㦮㦮 ┾Ⳋ㠦 ╖䞲 Ṩ 㧊┺.
B. ⻚䗒䂋 㞞㩫䢪⯒ 㥚䞲 IBAD Ὃ㩫 Ṳ㍶
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3㦮R
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NN㦖 MRDS Ὃ㩫(2)㦚 䐋䟊 㯳㹿♲
Y
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3㦮 䚲ⳊỆ䂶₆㧊Ⳇ, LMO㦮 R
RMS⓪ IBAD Ὃ㩫(3)㦚 Ⱎ䂲 ㍶㨂㦮 䚲ⳊỆ䂶₆㧊┺. LMO㦮 Δϕ㢖 Δω⓪ IBAD Ὃ㩫㦚 䐋䟊 㯳㹿♲ LMO㦮 ἆ㩫㎇㦚 ⋮䌖⌊⓪ ⼖㑮⪲
㍲ XRD (X-ray diffraction spectroscopy) 㧻゚⯒ 㧊㣿䞮㡂 䁷㩫䞮Ⳇ, ṗṗ 䘟Ⳋ䟻 ἆ㩫㎇㦮 ‶㧒☚㢖 㿫䟻 ἆ㩫㎇㦮 ‶㧒☚⯒ ⋮䌖⌎┺. Fig. 4⓪ Δϕ㢖 Δω㦮 Ṳ⎦
㦚 Ṛ⨋䧞 ⋮䌖⌎ ộ㦒⪲, ⻚䗒䂋㦚 ㎇Ⱏ䞮⓪ ὒ㩫㦖 ⼓
☢㦚 㕩⓪ ὒ㩫ὒ 㥶㌂䞮㡂 ỿ㧦✺㧊 ⋮⧖䧞 㕩㧒㑮⪳
Δϕ㢖 Δω㦮 Ṩ㦖 㧧㞚㰚┺(ἆ㩫㎇㧊 㫡㞚㰚┺).
Table 1. ൽ㍲⋾㦮 㽞㩚☚ ㍶㨂 㩲㫆ὒ㩫
Ὃ㩫⮮ 㩚(衔)Ὃ㩫 䤚(趒)Ὃ㩫
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㽞㩚☚䂋
㎇⓻䟻㌗ 䕾䋺㰫 ₆㑶䟻㌗
Ὃ㩫ⳛ
(1) EP (2) MRDS (3) IBAD (4) BLHT
(5) RCE-DR (6) Ag-Sputter (7) BOX
(8) 12 mm Cu-Sputter (9) Slitting
(10) 4 mm Cu-Sputter (11) EPL
(12) Baking (13) Sanding (14) Lamination
Fig. 1. ൽ㍲⋾㦮 㽞㩚☚ ㍶㨂 㩲㫆 Ὃ㩫 㑲㍲
Fig. 2. ൽ㍲⋾㠦㍲ 㩲㫆䞲 㽞㩚☚ ㍶㨂㦮 ┾Ⳋ ῂ㫆
⻚䗒䂋㦚 ㎇Ⱏ䞮⓪ Ὃ㩫㧎 IBAD (ion beam assisted deposition)⓪ ㎎ Ṳ㦮 㺪⻚(chamber)⪲ ῂ㎇♮㠊 㧞㦒Ⳇ ṗṗ IBAD-MgO, epi-MgO, LMO⯒ 㯳㹿䞲┺. 㧊 㭧 㼁 ⻞ 㱎 㺪⻚㠦㍲⓪ ゚㩫㰞㌗㧎 Y
2O
3䂋 㥚㠦 ἆ㩫㎇㧊 㫊㨂 䞶 㑮 㧞☚⪳ MgO⯒ 㯳㹿㔲䋾┺ [4]. 㧊 ➢ 㤦䞮㰖 㞠
⓪ ⺆䟻㎇㦚 Ṗ㰖⓪ MgO 㧛㧦⯒ 㞚⯊Ἲ 㧊㡾(Ar
+)オ㦚 㧊㣿䞮㡂 㠦䃃㔲䋺Ⳇ, 㧊⪲㖾 MgOỿ㧦⓪ 㯳㹿 Ⳋ㠦 㑮 㰗䞲 䟻ὒ 䘟䟟䞲 䟻㦒⪲ ⋮⧖䧞 㕩㧊Ợ ♮⓪◆ 㧊 ộ㦚 㧊㿫 ⺆䟻(bi-axial)㧊⧒ἶ 䞲┺. MgO㦮 㧊㿫⺆䟻㎇
㦖 㧊㡾オ 㩲㠊㠦 ➆⧒ ╂⧒㰖Ⳇ IBAD㦮 ἆ㩫㎇㧊 㽞 㩚☚䂋 ㎇㧻㠦 㡗䟻㦚 ⹎䂮₆ ➢ⶎ㠦 㡆ῂṖ 䞚㣪䞮┺.
㧊㡾オ 䎢㓺䔎⓪ 㓺䋂Ⰶ 㩚㞫(V
beam)ὒ Accelerator 㩚㞫
(V
accel)㦚 㫆㩞䞮㡂 䙃䟻 ‶㧒☚⯒ Ṳ㍶䞮ἶ MgO ἆ㩫
㎇㦚 䟻㌗㔲䋺ἶ㧦 䞮㡖┺.
C. 㽞㩚☚ ㎇⓻䟻㌗㦚 㥚䞲 RCE-DR Ὃ㩫 Ṳ㍶
RCE-DR㦖 㯳㹿 㺪⻚㠦㍲ ☯㔲㠦 ㎎ Ṗ㰖 ⁞㏣ 㤦
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⼖䢮(䄾⻚㩚, conversion)㔲䋺⓪ Ὃ㩫㧊┺. 㤆㑮䞲 ㎇㰞㦮 㽞㩚☚䂋㦚 㠑₆ 㥚䟊㍲⓪ Gd : Ba : Cu㦮 㫆㎇゚Ṗ 㭧㣪
䞲 ⼖㑮㧎◆, 㤦⬢ⶒ㰞㦮 㯳⮶㦚 㧒㩫䞮Ợ 㥶㰖䞮▪⧒
☚ Ὃ㩫 㭧 㽞㩚☚䂋㦮 㫆㎇゚⯒ 㥶㰖䞮⓪ ộ㦖 ⰺ㤆 㠊⩺㤊 㧒㧊┺. LMO ⻚䗒䂋 㥚㠦 㯳㹿♲ ゚㩫㰞 䢒䞿ⶒ 㦮 㫆㎇㦚 㰗㩧 䁷㩫䞮⓪ ⻫㦖 㞚㰗₢㰖 Ṳ♮㰖 㞠 㞮㦒Ⳇ, ⽎ 㡆ῂ㠦㍲⓪ 㾲┾ 㔲Ṛ㠦 㽞㩚☚䂋㦚 ῂ㎇䞮 ἶ 㧞⓪ 㫆㎇゚⯒ 㞢㞚⌊⓪ ⻫㦒⪲ 䄾⻚㩚♲ ㍶㨂㦮 䚲Ⳋ㌟㦚 㧊㣿䞮ἶ㧦 䞮㡖┺.
D. 䕾䋺㰫 ₆㑶䟻㌗㦚 㥚䞲 㧊䌏 㡊㻮Ⰲ Ὃ㩫 㿪Ṗ 㽞㩚☚ 䅖㧊な㠦 ㌂㣿♮⓪ ㍶㨂⓪ 㦮㦮 ㌂ἶ⯒
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㏣㦚 㩧䞿䞮₆ 㥚䟊 㞫⩻㦚 Ṗ䟊㭒⓪ 㔺Ⰲ䆮 な⪳㦮 ㏦
㌗㦒⪲䎆 ㌳䞲┺. 㧊⓪ 㔺Ⰲ䆮 な⪳㠦 㧊ⶒ㰞 ⋒㧚 㦒⪲ ㌳䞮⓪◆, 㧊ⶒ㰞㦖 ㌆䢪㭒㍳㦮 ἓ㤆Ṗ ╖
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㌳㦚 Ṧ㏢㔲䋺⓪ ⻫㧊┺.
III.
ἆ ἆὒ ἶ㺆
A. ⻚䗒䂋㦮 ㎇⓻䟻㌗㦚 㥚䞲 EP Ὃ㩫 Ṳ㍶
㩚䟊㡆Ⱎ 㩚, ⁞㏣ ₆䕦㦮 㡺㡒ⶒ㰞㦚 㩲Ệ䞮₆ 㥚 䟊 ㌆ὒ 㞢䃒Ⰲ, flux, 㩚䟊䌞㰖 ❇㦚 㧊㣿䞮㡂 ₆䕦㦚 ㎎ 㻯(䌞㰖)䞮⓪ 㔺䠮㦚 䞮㡖┺. Fig. 5⓪ 䌞㰖 㔺䠮 㧊䤚 ₆ 䕦 䚲Ⳋ㦚 㩚㧦䡚⹎ἓ㦒⪲ ὖ㺆䞲 ộ㧊┺. ṫ㌆㦒⪲ 䌞 㰖䞲 ἓ㤆(Fig. 5(a)) 㡺⩢㰖 ℣㰞ὒ ṯ㧊 㩗㦒⪲ Ệ 䂲 䚲Ⳋ㦚 ὖ㺆䞶 㑮 㧞㠞㦒Ⳇ ㎎㻯㧊 㩗㦒⪲ 㰚䟟
♮㰖 㞠㞮㦢㦚 㞢 㑮 㧞┺. ṫ㞢䃒Ⰲ(Fig. 5(b)) 㟓㞢䃒 Ⰲ(Fig. 5(c))⯒ 㧊㣿䞲 䌞㰖㠦㍲☚ ṫ㌆㦮 ἓ㤆㢖 Ệ㦮
☯㧒䞲 䚲Ⳋ㌗䌲⯒ ὖ㺆䞶 㑮 㧞㠞┺. PCB₆䕦㩲㫆㠦 ㌂ 㣿䞮⓪ flux(Fig. 5(d))⯒ 㧊㣿䞲 䌞㰖㦮 ἓ㤆, ṫ㌆䌞㰖㠦
㍲ ⽊ 㧊 ⓪ 㡺 ⩢ 㰖 ℣ 㰞 䡫 䌲 㦮 㩗 㦒 ⪲ Ệ 䂲 䚲Ⳋ㦚 ὖ㺆䞶 㑮⓪ 㠜㠞㦒⋮ 㩚㼊㩗㦒⪲ Ệ䂲 䚲Ⳋ㦚 ὖ㺆䞶 㑮 㧞㠞ἶ, flux㠦 㦮䞲 㔳㧊 㕂ṗ䞮㡂 䚲Ⳋ 㫆
☚Ṗ 㕂䞮Ợ 㯳Ṗ䞲 ộ㦚 ὖ㺆䞶 㑮 㧞㠞┺. 㩚䟊㡆Ⱎ
₆䕦㦮 䚲Ⳋ㫆☚⓪ 㩚䟊㡆Ⱎ 㩚 ⁞㏣₆䕦㦮 䚲Ⳋ㫆☚㠦 Fig. 3. 㧚Ἒ㩚⮮㢖 㩚(衔)Ὃ㩫 ṗ 䂋㦮 ㌗ὖὖἚ
G
Fig. 4. ἆ㩫㎇㦚 ⋮䌖⌊⓪ ⼖㑮 Δϕ 㢖 Δω
100 200 300 400 500 600
0 5 10 15 20 25
Roughness(RRMS, nm) Critical current(IC, A)
RRMS(EP) RRMS(MRDS) RRMS(IBAD)
100 200 300 400 500 600
0 5 10 15 20
epitaxy('I, 'Z, degree) Critical current(IC, A)
'I 'Z
0 4 8 12
0 5 10 15 20 25
Roughness(RRMS, nm)
epitaxy('Z, degree)
RRMS(EP) RRMS(MRDS) RRMS(IBAD)
G
Fig. 5. ⁞㏣₆䕦㦮 㡺㡒㩲Ệ ⻫ὒ ⁎ ἆὒ (ὧ䞯䡚⹎ἓ 㧊⹎㰖)
䋂Ợ 㫢㤆♮⸖⪲ 䚲Ⳋ㦮 㧊ⶒ㰞㧊 㢚㩚䧞 㩲Ệ♲┺ 䞮
▪⧒☚ 䚲Ⳋ㦮 㫆☚Ṗ 㯳Ṗ䞮Ⳋ 㩚䟊㡆Ⱎ 䤚 Ὃ㩫㠦 ㌂ 㣿䞶 㑮 㠜Ợ ♮㠊 䌞㰖 䤚⽊㠦 㩗䞿䞮㰖 㞠┺. Ⱎ㰖Ⱏ 㦒⪲ 㔲䟟䞲 㩚䟊䌞㰖㦮 ἓ㤆(Fig. 5(e)) ゚ᾦ㩗 ‶㧒䞲 䚲Ⳋ㌗䌲⯒ ὖ㺆䞶 㑮 㧞㦒Ⳇ 䚲Ⳋ㦮 㧊ⶒ㰞㧊 㢚㩚䧞 㩲Ệ♾㦚 㞢 㑮 㧞┺. ⁞㏣₆䕦㦮 㩚䟊䌞㰖⓪ 㩚䟊㡆Ⱎ 㢖 Ⱎ㺂Ṗ㰖⪲ ⁞㏣₆䕦㦮 䚲Ⳋ㦚 㡆Ⱎ䞮⓪ ὒ㩫㧊㰖Ⱒ 䚲Ⳋ㦮 ㌗䌲⯒ 㢚⼓䞮Ợ ⰺ⊚⩓Ợ Ⱒ✺㰖 㞠ἶ 㧒㩫䞲
⚦℮ 㧊㌗Ⱒ㦚 㩲Ệ䞮⓪ ộ㧊┺. 㩚䟊䌞㰖⯒ 䐋䟊 ⁞㏣
₆䕦 䚲Ⳋ㠦 㥶㹿♮㠊 㧞▮ 㡺㡒㤦㧊 ⁞㏣₆䕦㦮 䚲Ⳋ 㦚 ῂ㎇䞮⓪ ⁞㏣㧛㧦Ṗ 㩲Ệ♮⓪ ộὒ 䞾℮ 㩲Ệ♲┺. G
Fig. 6(d)⓪ 76 μm ⚦℮㦮 ⁞㏣₆䕦㦚 75 μm㦮 ⚦℮
⪲ 㩚䟊䌞㰖 䤚(Fig. 6(a)) 㩚䟊㡆Ⱎ⯒ 㰚䟟䞮㡂 61 μm ⚦
℮㦮 ₆䕦 䚲Ⳋ㧊┺. ⁞㏣₆䕦 䚲Ⳋ㠦 ⋾㞚㧞⓪ 㥶Ⱏ 㭒
⼖㦒⪲ 㩚⮮⹖☚Ṗ 㰧㭧♮㠊 䧆 Ṗ⬾⯒ ㈢⩺ ⏩㦖 ❅䞲 ὒ☚䞲 㡆ⰞṖ 㰚䟟♲ ộ㦚 㞢 㑮 㧞┺. Fig. 6(e)⓪ 㩚䟊 䌞㰖 䤚 ⁞㏣₆䕦㦮 ⚦℮Ṗ 74 μm㧎 ₆䕦(Fig. 6(b))㦚 㩚 䟊㡆Ⱎ 䞲 ἆὒ㧊Ⳇ, Fig. 6(d)㦮 䚲Ⳋ⽊┺⓪ ₾⊭䞮⋮ 㞚 㰗☚ ₆䕦 㭒⼖㠦 㩦㩦㧊 ὒ☚䞲 㡆Ⱎ㦮 䦪㩗㧊 ⽊㧎
┺. Fig. 6(f)⓪ 㩚䟊䌞㰖 䤚 70 μm ⚦℮㦮 ₆䕦㦚 㩚䟊㡆 Ⱎ 䞲 ἆὒ㧊┺. 䚲Ⳋ㦮 Ⲓ㰖㢖 ⁎Ⱂ㧦 ❇㦚 㩲㣎䞮Ⳋ ὒ☚䞲 㠦䃃 㠜㧊 ⰺ⊞䞲 䚲Ⳋ㦚 ⽒ 㑮 㧞┺. 㯟, ⁞㏣
₆䕦㦮 䞲 Ⳋ㧊 㾲㏢ 2 μm 㧊㌗ 㩲Ệ♮㠞㦚 ➢, ₾⊭䞮 ἶ 㫡㦖 䚲Ⳋ㦚 㠑㦚 㑮 㧞㠞┺. 㩚䟊䌞㰖⯒ 䐋䟊 䚲Ⳋ 㦮 ㌗䌲Ṗ 㫡㞚㰚 㧊㥶⓪ ⁞㏣₆䕦㦮 㤦⬢⯒ Ὃ 䞮⓪ 㠛㼊㠦㍲ ₆䕦㦚 㩲㫆䞶 ➢, 500~600
ºC㠦 㧊⯊⓪ ἶ㡾㠦
㍲ 㞫㡆㥶Ṗ ₆䕦㦮 䚲Ⳋ㠦 ṫ䞮Ợ ╂⧒㠊 㧒㩗㧎
㎎㻯ὒ㩫㦚 䐋䟊㍲⓪ 㢚㩚䞮Ợ 㩲Ệ䞮㰖 ⴑ䞮⓪ ộ㦚 㩚䟊䌞㰖⯒ 䐋䟊 ⁞㏣㧛㧦㢖 㑲ⶒ㦚 ☯㔲㠦 ⠒㠊⌊₆
➢ⶎ㧎 ộ㦒⪲ 㧊䟊䞶 㑮 㧞┺.
Fig. 7㦖 㩚䟊䌞㰖 㩗㣿 㩚(Fig. 7(a))ὒ 㩗㣿 䤚(Fig.
7(b))㦮 㽞㩚☚ ㍶㨂㦮 㩚₆㩗 ㎇⓻㦚 䁷㩫䞲 ἆὒ㧊┺.
䚲Ⳋ 㡺㡒ⶒ㰞⪲ 㧎䟊 ‶㧒䞲 㩚₆㩗 ㎇⓻㦚 ⋮䌖⌊
▮ ㌗䌲㠦㍲ ‶㧒䞲 㩚₆㩗 ㎇⓻㦚 ⋮䌖⌊⓪ ㌗䌲⪲ Ṳ
㍶♲ ộ㦚 㞢 㑮 㧞┺.
B. ⻚䗒䂋 㞞㩫䢪⯒ 㥚䞲 IBAD Ὃ㩫 Ṳ㍶
Fig. 8㦖 IBAD ⻫㦮 Ṳ⨋㩗㧎 ⳾㔳☚㧊┺. Crucible 㠦㍲ 㯳♲ MgO⓪ ㎎ Ṗ┻ ㍶㨂㠦 ἶ⯊Ợ 䗒㪎 㯳㹿
♮ἶ, Ion gun㦒⪲䎆 㧛㌂♮⓪ Ar
+㧊㡾オ㦖 㯳㹿♮⓪ MgO 㭧 㧊㿫 ⺆䟻㠦 ⰴ㰖 㞠⓪ ộ✺㦚 䞚䎆Ⱇ䞲┺. 㧊
➢, 㧊㡾オ㦮 㠦⍞㰖Ṗ ⍞ⶊ 䋂Ệ⋮ 㧧㦒Ⳋ 㢂⯎ 㧊㿫
⺆䟻㦚 Ⱒ✺㰖 ⴑ䞮ἶ 㧊㡾オ㦮 䙃㧊 㧧㞚㰖Ⳋ ‶㧒
䞲 㧊㿫 ⺆䟻㦚 㠑Ợ ♲┺. 㧊㡾オ㦮 䙃ὒ 㠦⍞㰖⓪
V
beamὒ V
accel㦚 ⼖䢪㔲䅲 㩲㠊䞶 㑮 㧞┺. Fig. 8㦮 (a)
V
beam: 1000 V, V
accel: 800 V㦮 ἓ㤆 ṗ turnⰞ┺ ㌟㧊 ‶
䞮Ⳇ ⚦⻞㱎 turn䎆 Ar
+㧊㡾オ㠦 㦮䞲 MgO 䞚䎆Ⱇ㧊 䢲㎇䢪♮⓪ ộ㦚 㞢 㑮 㧞┺. ㎎ Ṳ㦮 ㍶㨂 㭧 㡺⯎㴓
㍶㨂⓪ 䞚䎆Ⱇ㧊 㟓䞮Ệ⋮ Ệ㦮 䞚䎆Ⱇ♮㰖 㞠㦖 ộ㦒
⪲ ⽊㡂㰚┺. Fig. 8㦮 (b) V
beam: 1100 V, V
accel: 850 V㦮 ἓ㤆 㩚㼊㩗㦒⪲ 㡍㦖 ⽊⧒㌟㦚 ⋮䌖⌊Ⳇ Ar
+㧊㡾オ㠦 㦮䞲 MgO 䞚䎆Ⱇ㧊 䤾㞂 ▪ ‶㧒䞾㦚 㞢 㑮 㧞┺. 䚲 2㠦 ⋮ 䌖⌎ ṗṗ㦮 turn⼚ ἆ㩫㎇㦚 ⽊Ⳋ V
beam: 1100 V, V
accel: 850 V㦮 㫆䞿㦮 ἓ㤆 6.68㠦㍲ 6.93₢㰖 0.25㦮 ⼖䢪⪲
‶㧒䞲 ἆ㩫㎇㦚 ⽊㧊ἶ 㧞㦒⋮, V
beam: 1000 V, V
accel: 800 V 㦮 㫆䞿㦮 ἓ㤆 6.62㠦㍲ 7.36₢㰖 0.74㦮 ⼖䢪⪲ ‶㧒 䞲 ἆ㩫㎇㦚 ⽊㧊ἶ 㧞┺. XRD ㍳ ἆὒ㢖 䚲Ⳋ㌟ ἆ ὒ⯒ 䐋䟊 V
beam: 1100 V, V
accel: 850 V㦮 㫆䞿㧊 㾲㩗㦮 㫆 䞿㧚㦚 㞢 㑮 㧞┺.
C. 㽞㩚☚䂋 ㎇⓻䟻㌗㦚 㥚䞲 RCE-DR Ὃ㩫 Ṳ㍶
Fig. 9⓪ 䄾⻚㩚 䤚 㽞㩚☚䂋㦮 䚲Ⳋ㌟ὒ 㽞㩚☚ ㍶ 㨂 㧚Ἒ㩚⮮㦮 ㌗ὖὖἚ⯒ ╖⨋㩗㦒⪲ 㞢⩺㭖┺. ㍶㨂 䚲Ⳋ㠦 ゚㓺❂䞮Ợ ゚䂲 ⺇㌟ ὧ㤦㦮 ㌟㧊 㦖 㡻㌟㦒
⪲ 㥶㰖♶ ➢ 㟧䢎䞲 㧚Ἒ㩚⮮ 䔏㎇㦚 ⋮䌖⌎┺. 䚲Ⳋ㌟
㦮 㫛⮮㠦 ➆⧒ Gd, Ba, Cu㦮 Ⱔἶ 㩗㦢㦚 Ṗ⓶䞶 㑮 㧞
GFig. 6. 㩚䟊䌞㰖㦮 ⚦℮㠦 ➆⯎ 䚲Ⳋ㌗䌲㦮 ⼖䢪.
(a)
(b)
Fig 7. (a) 㩚䟊䌞㰖⯒ 䞮㰖 㞠㦖 ἓ㤆, (b) 㩚䟊䌞㰖 䞲 ἓ㤆
⓪ ◆, 㧊㠦 ➆ ⧒ ṗṗ㦮 ⁞㏣㦮 㯳⮶㦚 㩲㠊䞮㡂 㧒 㩫䞲 䚲Ⳋ㌟, 㯟 㧒㩫䞲 㧚Ἒ㩚⮮⯒ 㥶㰖䞶 㑮 㧞┺.
RCE-DR Ὃ㩫㦖 ἶ㰚Ὃ 䞮㠦 㰚䟟♮⸖⪲ 䞲 ⻞ 㯳 㹿♲ 㽞㩚☚䂋㦮 㫆㎇ὒ 㧚Ἒ㩚⮮ 䔏㎇㦚 Ὃ㩫 㭧㠦 㔺 㔲Ṛ㦒⪲ 䢫㧎䞮⓪ ộ㧊 䡚㨂⪲㍲⓪ Ṗ⓻䞮┺. ⁎⩂⋮
₆㫊㠦 㩲㧧♲ 㽞㩚☚ ㍶㨂㦮 䔏㎇ 㧦⬢㢖 㩲㧧 ╏㔲㦮
㌟㺚 㧦⬢⯒ ㍳䞮㡂 㧒╖㧒 ╖㦧㔲䅲㍲ 㧚Ἒ㩚⮮ 䔏
㎇㧊 㫡㦚 ➢㦮 ㌟㺚(RGB color; R: Red, G: Green, B: Blue) 㩫⽊ ◆㧊䎆㧊㓺⯒ ῂ㿫䞲┺Ⳋ Ṛ㩧㩗㧎 㩲㠊Ṗ Ṗ⓻ 䟊㰚┺. Fig. 10㦖 MATLAB㦚 㧊㣿䟊 Ṳ䞲 ㌟㺚㍳
䝚⪲⁎⧾㠦 㩗㣿♲ 㞢ἶⰂ㯮㦚 ⽊㡂㭖┺. ⺇㌟ ὧ㤦㦚
゚䀆 ㌂♲ ケ㦚 CCD 䃊Ⲫ⧒⯒ 䐋䟊 㑮㰧䞮㡂 Ṳ♲
䝚⪲⁎⧾㠦㍲ ㌟㺚 㩫⽊⯒ ㍳䞲┺. 㧊 㩫⽊Ṗ ἶ䛞㰞 㡗㡃(㧚Ἒ㩚⮮ 䔏㎇㧊 㫡㦚 ➢㦮 RGB 㡗㡃) ⌊㠦 㧞㰖 㞠┺Ⳋ feedback signal㦚 ⽊⌊ e-gun㦮 㿲⩻ ❇㦚 㫆㩞䞲
┺. Feedback control㦚 䐋䟊 㩦㹾 ἶ䛞㰞 㡗㡃㦒⪲ ㌟㧊 ⰴ䀆㰖⓪ ὒ㩫㦚 Fig. 10㦚 䐋䟊 䢫㧎䞶 㑮 㧞┺. 㻮㦢㠦
⓪ ⽊⧥ケ㦚 ⦶㠞㦒⋮ 㩲㠊Ṗ ⊳⋲ 㔲㩦㠦⓪ 㦖 㡻㌟
(R: 79, G: 166, B: 189)㧊 ♲┺ [5]. G
RCE-DR Ὃ㩫 ☯㞞 Gd-Ba-Cu-O 䡫䌲㦮 ゚㩫㰞 㩚ῂ 㼊Ⱏ㧊 䂋䂋㧊 㯳㹿♲ 䤚 㫆⁞ ▪ ⏨㦖 ㌆㏢ 㞫㠦㍲
Gd
2O
3+ Liquid(L) 䡫䌲⪲ ⼖䢪䞮Ợ ♮Ⳇ(䄾⻚㪒), ▪ ⏨㦖
㌆㏢ 㞫㠦㍲ 㾲㫛㩗㦒⪲ GdBa
2Cu
3O
7-δ(GdBCO)㦮 㽞㩚
☚㌗㦒⪲ ⼖䢪䞮Ợ ♲┺. 㧊 ➢ ┾㔲Ṛ㠦 Ⱏ 㩚㼊㠦 Ỏ 㼦 ‶㧒䞮Ợ ㌗㩚䢮䞮⓪ ộ㧊 GdBCO㦮 䔏㎇㠦 㰗㩧㩗 㧎 㡗䟻㦚 㭒Ợ ♲┺ [6][7]. 䔏䧞 㞷㌗㦮 䡫㎇㦖 ⁞㏣
㤦㏢✺ὒ ㌆㏢㦮 ἆ䞿㌗䌲 ㌆㏢㦮 䙂㢖 Ⱔ㦖 㡆ὖ 㦚 Ṗ㰖ἶ 㧞┺. 䡚㨂㦮 RCE-DR Ὃ㩫㦖 䂋䂋㧊 㯳㹿♲
sub-layer㦮 ⚦℮Ṗ 㯳Ṗ䞶㑮⪳ ㌆㏢‶䡫 ⶎ㩲⪲ 㧎䟊 㽞㩚☚㌗㧊 㩲╖⪲ 䡫㎇䞮㰖 ⴑ䞶 㑮 㧞┺. ➆⧒㍲ 㧚Ἒ 㩚⮮ 䟻㌗㦚 㥚䟊 ⚦ℒ㤊 㽞㩚☚䂋㦚 㩲㫆䞮▪⧒☚ J
CṖ Ṧ㏢䞮㡂 I
C㯳Ṗ 䣾ὒ⯒ 㠑㰖 ⴑ䞮⓪ ⶎ㩲㩦㧊 ㌳䞲
┺. ➆⧒㍲ ṗ sub-layer ✺㦮 㫆㎇㦮 ‶㧒☚, ㌆㏢㦮 䞾 㥶⨟, ㌆㏢ 䙂 ‶㧒☚⓪ 3 μm ⚦℮ 㧊㌗㦮 㽞㩚☚䂋㦚 㩲㫆䞮⓪ ◆㠦 㧞㠊 ⰺ㤆 㭧㣪䞮┺. 㧊⩂䞲 㧊㥶⪲ ゚㩫 㰞 㩚ῂ㼊Ⱏ 㯳㹿 㔲 ṗ sub-layer Ⱎ┺ ㌆㏢㢖 㫆㎇㦚
‶㧒 䞮Ợ 䞶 㑮 㧞⓪ ₆㑶㦚 Ṳ䟊㟒 䞲┺. 㯟 ㌆㏢⯒
ṗ sub-layer Ⱎ┺ ‶㧒䞮Ợ Ὃ 䞶 㑮 㧞Ợ 䞮⓪ ⻫㧊
⋮, Ⲗ䕆䎊㦮 䣢㑮⯒ 㯳Ṗ㔲䅲 ṗ sub-layer✺㦮 ⚦℮⓪ Ṧ㏢㔲䋺Ⳋ㍲ 㩚㼊 㽞㩚☚Ⱏ㦮 ⚦℮⓪ 㯳Ṗ㔲䋺⓪ ❇㦮 Ὃ㩫 ₆㑶㧊 Ṳ♮㠊㟒 䞲┺. 㧊㢖 ὖ⩾♲ 㡆ῂṲ㧊 㰚䟟♮ἶ 㧞㦒Ⳇ, Ṳ㍶♲ Ὃ㩫㦚 䐋䟊 3 μm ⚦℮㠦㍲
>3.3 MA/cm
2㦮 J
C⯒ ╂㎇䞲┺Ⳋ, 1,000 A/cm-width(400 A/4 mm-width)㦮 㽞ἶ㧚Ἒ㩚⮮㦮 㽞㩚☚ ㍶㨂⯒ ㌳㌆䞶 㑮 㧞㦚 ộ㦒⪲ ₆╖䞲┺. G
G
D. 䕾䋺㰫 ₆㑶䟻㌗㦚 㥚䞲 㧊䌏 㡊㻮Ⰲ Ὃ㩫 㿪Ṗ ῂⰂ ☚⁞ 䛖㦢㦖 ☚⁞ Ὃ㩫 㔲 㑮㏢ ₆㼊Ṗ ☚
⁞ 䚲Ⳋ㠦 ⌊䙂♮㠊 ㌳₆⓪ ⶎ㩲⪲ ☚⁞ 㟒㠦㍲ 㧦㭒 Fig. 8. IBAD ⻫㦮 Ṳ⨋㩗㧎 ⳾㔳☚㢖 䎢㓺䔎 ἆὒ
Table 2. Turn⼚ V
beamὒ V
accel㫆䞿 V
beam:
1000 V V
accel: 800 V
XRD (Δϕ) σ
V
beam: 1100 V
V
accel: 850 V
XRD (Δϕ) σ 1
stturn 6.62 0.33 1
stturn 6.68 0.12 2
ndturn 7.36 2
ndturn 6.92 3
rdturn 7.27 3
rdturn 6.93
Fig. 9. 㽞㩚☚䂋㦮 䚲Ⳋ㌟ὒ 㽞㩚☚ ㍶㨂㦮 㧚Ἒ㩚⮮
Fig. 10. ㌟㺚 ㍳ 䝚⪲⁎⧾㠦 㩗㣿♲ 㞢ἶⰂ㯮
㌳䞮⓪ ⶎ㩲㧊┺. 㧊⯒ 䟊ἆ䞮₆ 㥚䟊 ☚⁞ 㧊䤚 㧊 䌏 Ὃ㩫㦚 㩗㣿䞮㡖㦒Ⳇ 㡊㻮Ⰲ⯒ 䐋䟊 㑮㏢ ₆㼊⯒ ☚
⁞Ⱏ 㦒⪲ ⺆㿲㔲䋺ἶ㧦 䞮㡖┺. 䞲䘎, 䛖㦢㦖 ῂⰂ
☚⁞♲ 㽞㩚☚ ㍶㨂Ṗ 㣿㦋♲ ㏪▪㠦 ╕₆ 㩚㠦⓪ ⨟
㌳㦚 㞢 㑮 㠜㦒⸖⪲ 㡊䛣₆⯒ 㧊㣿䞮㡂 ῂⰂ☚⁞ ㍶ 㨂⯒ Ṗ㡊䞮㡂 ⨟㦮 㡂⯒ 䕦┾䞮㡖┺.
Fig. 11㦖 㧊䌏 㡊㻮Ⰲ㦮 㡾☚ ⼖䢪 ⁎⧮䝚㢖 Ὃ㩫 㩗㣿 㩚, 䤚 Ṳ㍶♲ ㍶㨂㦮 䚲Ⳋ㌗䌲⯒ ⽊㡂㭖┺. 㧊 䌏 㩚 㡊䛣₆㠦 㦮䟊 䛖㦢 ⨟㧊 ㌳䞮⓪ ㍶㨂Ṗ
㧊䌏 㡊㻮Ⰲ 䤚㠦⓪ 㡊䛣₆ 䎢㓺䔎㠦☚ 䛖㦢 ⨟
㧊 ㌳䞮㰖 㞠㦖 ộ㦚 ⽒ 㑮 㧞┺. Fig. 11(c)⓪ 㧊䌏 㡊㻮Ⰲ 㩗㣿 䤚 ㌳㌆♲ ⧒⹎⍺㧊㎮ ㍶㨂㦮 㣎ὖ㧊┺. 䛖㦢 ⨟㧊 Ệ㦮 㠜⓪ ộ㦚 䢫㧎䞮㡖┺. G
IV.
ἆ ἆ⪶
㽞㩚☚ ㍶㨂㦮 ⏨㦖 㧚Ἒ㩚⮮ ㌳㌆㎇ 䟻㌗㦚 㥚
䞮㡂 ൽ㍲⋾㦮 㽞㩚☚ ㍶㨂 㩲㫆 Ὃ㩫㦚 Ṳ㍶ 䢫Ⱃ 䞮₆ 㥚䞲 㡆ῂ⯒ 㰚䟟䞮㡖┺. 㩗㣿 Ὃ㩫㦖 EP, IBAD, RCE-DR 䤚(趒)Ὃ㩫㧊Ⳇ 㡆ῂ ἆὒ 150 A/ 4 mm 㧊㌗
㦮 㧚Ἒ㩚⮮⯒ Ṗ㰖⓪ 㽞㩚☚ ㍶㨂⯒ 㩲㧧䞮㡖ἶ ⨟
⮶㦚 10% 㧊䞮⪲ Ṧ㏢㔲䌂 㑮 㧞㠞┺. EP Ὃ㩫㠦㍲⓪ 䌞㰖⯒ 㥚䞲 㡆ῂ⯒ 㑮䟟䞮㡖㦒Ⳇ 㩚䟊䌞㰖⻫㦚 㩗㣿䞮 㡂 R
RMSṖ 5 nm 㧊䞮㧎 䚲ⳊỆ䂶₆⯒ Ṗ㰖⓪ ₆䕦㦚 㩲 㫆䞮㡖㦒Ⳇ, 㩚䟊䌞㰖 㑮䟟 㔲 㾲㏢ 2 μm 㧊㌗㦮 ⚦℮⯒
㩲Ệ䞾㦒⪲㖾 ⏨ἶ ‶㧒䞲 㧚Ἒ㩚⮮⯒ 㠑㦚 㑮 㧞㠞┺.
IBADὋ㩫㦮 MgO㎇Ⱏ 㔲㠦 㧊㡾オ㦮 㠦⍞㰖Ṗ V
beam: 1100 V, V
accel: 850 V㦮 㫆䞿㧒 ➢ Δϕ Ṩ㧊 6.68㠦㍲ 6.93
₢㰖 0.25㦮 ⼖䢪 Ṩ㦒⪲ ‶㧒䞮ἶ ⏨㦖 ἆ㩫㎇㦚 ⽊㡖 ἶ ⁎ ἆὒ ⏨㦖 㧚Ἒ㩚⮮⯒ Ṗ㰖⓪ ㍶㨂⯒ 㩲㫆䞶 㑮 㧞㠞┺. RCE-DR Ὃ㩫㠦㍲ ⏨㦖 㧚Ἒ㩚⮮㦮 㽞㩚☚䂋㦚
‶㧒䞮Ợ 㯳㹿䞮₆ 㥚䞮㡂 MATLAB㦚 㧊㣿䞲 䚲Ⳋ㌟㺚
㍳㦚 㔲䟟䞮㡖ἶ, ⁎ ἆὒ 㽞㩚☚ ㎇⓻㦮 㭒㣪 ⼖㑮㧎 㫆㎇゚ 㩲㠊Ṗ Ṗ⓻䞮Ợ ♮㠞┺. ⡦䞲 䤚(趒)Ὃ㩫㠦㍲㦮
⨟⮶㦚 ⌄㿪₆ 㥚䞮㡂 㧊䌏 㡊㻮Ⰲ⯒ 㩗㣿䞮㡖┺.
REFERENCES