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[신설학회상 소개] 이엔에프창의혁신상 제정

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KIC News, Volume 19, No. 3, 2016

KIC News, Volume 19, No. 3, 2016

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[신설학회상 소개]이엔에프창의혁신상 제정

박 종 욱 총무이사 (가톨릭대학교)

본 학회에서는 한국 공업화학분야에서 창의적이고 혁신적인 업적을 이루고, 국내⋅외 공업화학의 발전 에 기여한 과학자를 격려하기 위하여 “이엔에프창의혁신상”을 신규로 제정하였습니다. 본 상은 ㈜이엔에프 테크놀로지로부터 출연을 받아 고분자, 정밀화학, 콜로이드⋅계면화학 분야의 유능한 중견 연구자를 추천 받고 엄정한 업적심사를 통하여 선발하고 수여하기로 하였습니다.

이엔에프창의혁신상의 포상자는 최근 3년 이상 한국공업화학회 회원으로 활동한 자로서 시상일 기준 만 45세 이상이고 만 55세 이하인 한국공업화학회 회원을 대상으로 추천, 심의, 선정, 이사회 승인을 거쳐 1 년에 한번 학술대회 총회에서 시상하게 됩니다. 수상자에게는 한국공업화학회 회장 명의의 상장과 ㈜이엔 에프테크놀로지의 출연금 600만원의 상금을 1명에게 지급하게 됩니다. 수상자의 선정절차는 각 분과회장 및 공업화학회 회원이 추천한 후보자들의 업적 자료와 추천서를 바탕으로 하여 포상위원회 심사위원단의 심사위원들이 평가하고 예비수상자를 이사회에 추천하여 심의하게 됩니다.

본 상은 2016년부터 매년 춘계 총회에서 1회 시상될 예정이며, 이 상을 통하여 중견 공업화학인들의 연 구활동이 산업발전에 크게 기여할 수 있기를 기대합니다. 아울러 한국공업화학 산업의 발전을 위해 상금을 출연해 주신 ㈜이엔에프테크놀로지에게 학회를 대신하여 깊은 감사를 드립니다.

(주)이엔에프테크놀로지

2000년 전자재료 정밀화학 전문기업으로 설립된 ENF테크놀로지는 신기술 개발과 도전정신으로 프로세 스케미컬 분야를 새롭게 개척해왔습니다. ENF테크놀로지는 끊임없는 연구개발과 신기술로 국내외 TFT-LCD와 반도체 전자재료 시장을 개척해 왔으며, 앞선 기술로 대한민국을 넘어 글로벌 전자재료 시장 을 향합니다.

설 립 일 2000년 5월 1일

소 재 지 기흥(본사 및 중앙연구소), 아산(공장 및 연구소), 울산(공장 및 연구소)

주요사업

전자재료: 반도체 및 디스플레이용 화학소재

- 공정재료: 신너, 식각액, 박리액, 세정제, 현상액 등 - 유기재료: 칼라페이스트, 모노머류, 폴리머류 등 전지재료: 이차전지용 화학소재

- 양극활물질 매출액(2015년) 311,850백만원

주요 인증 및 수상

2015년 코스닥 라이징스타 7년 연속 히든챔피언 4년 연속

2014년 월드클래스300 2009년 코스닥 상장

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http://www.ksiec.or.kr

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공업화학 전망, 제19권 제3호, 2016

이엔에프창의혁신상 선정 내규

2016. 4. 11 제정

제1조(목적) 본 내규는 한국공업화학회상 규정에 의거하여 고분자, 정밀화학, 콜로이드계면화학 및 공업화학 유관분 야에서 창의적이고 혁신적인 업적을 이룬 과학자에게 ENF테크놀로지 창의혁신상을 수여함에 있어 세부사항을 정하는 데 그 목적이 있다.

제2조(포상자 자격) 본 상의 포상자는 최근 3년 이상 한국공업화학회 회원으로 활동한 자로서 시상일 기준 만 45세 이상이고 한국공업화학회 회원으로서 국내외 공업화학의 발전에 기여한 바가 크면서 향후 더 기여할 가능성이 높은 한국공업화학회 회원에게 수여한다.

포상자는 다음 각 호 항목 중 1개 이상에 해당하는 공업화학 분야의 발전에 기여한 실적이 있는 경우에 이를 심사하여 시상한다.

1. 논문 출판: 최근 5년간 SCI(E)급 논문 출판 실적이 10편 이상인 자 2. 특허 등록: 국내외 특허등록 실적이 10건 이상인 자

3. 기타 상훈을 수여할 만한 가치가 있다고 인정될 경우

제3조(포상자 선정) 포상 1차 추천은 고분자분과, 정밀화학분과, 콜로이드⋅계면화학분과에서 각 분과회장이 1~3인 의 후보자를 추천할 수 있으며, 일반 회원 및 포상위원회 위원도 별도로 후보자를 추천할 수 있다. 학회상 규정 제5조에서 정한 위원장과 선정위원으로 구성된 포상위원회에서 수상 후보자를 심의하고 최종 수상 후보자를 이 사회에 추천하여 학회 이사회에서 최종 결정한다.

제4조(포상내용) 포상에 관한 사항은 다음 각 호에 따르며, 추가적으로 필요한 세부사항은 포상위원회에서 별도로 정 할 수 있다.

1. 시상: 상장

2. 부상: 총 1인(시상금 6백만원)

3. 포상 시기: 춘계 총회(단, 후보자 1차 추천 이전에 상금 재원이 확보된 경우에 한함) 4. 추진 절차: 후보자 추천 접수(매년 1-2월 중), 심사 및 선정(춘계총회 이전)

제5조(후원재원) 상금 재원은 ㈜이엔에프테크놀로지의 년 1200만원 후원 중 시상금 6백만원을 사용한다.

제6조(시행일)

1. 본 규정은 2016년 4월 11일부터 제정⋅시행한다.

참조

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